仁木 栄 | 産業技術総合研究所
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概要
関連著者
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仁木 栄
産業技術総合研究所
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山田 昭政
産業技術総合研究所
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仁木 栄
産業技術総合研究所太陽光発電研究センター化合物薄膜チーム
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山田 昭政
産業技術総合研究所太陽光発電研究センター化合物薄膜チーム
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石塚 尚吾
産業技術総合研究所
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松原 浩司
産総研
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松原 浩司
産業技術総合研究所 太陽光発電研究センター
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石塚 尚吾
産業技術総合研究所太陽光発電研究センター化合物薄膜チーム
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松原 浩司
(独)産業技術総合研究所
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櫻井 啓一郎
産業技術総合研究所
著作論文
- CuInGaSe_2薄膜を用いた高感度・広帯域イメージセンサ(IEDM特集(先端CMOSデバイス・プロセス技術))
- カルコパイライト系薄膜太陽電池の開発の現状と将来展望
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- ワイドギャップCIGS太陽電池の高効率化技術
- Cu(In_Ga_x)Se_2系薄膜太陽電池の現状と今後の課題
- カルコゲナイド系太陽電池
- 酸化亜鉛透明導電膜の高品質化とバンドエンジニアリング
- 半導体グレードの酸化物単結晶薄膜
- ZnO系エピタキシャル薄膜の高品質化とヘテロ接合
- CIGS太陽電池の現状と将来展望