原田 仁平 | 理学電機(株)x線研究所
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概要
関連著者
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原田 仁平
理学電機(株)x線研究所
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高橋 功
関西学院大学理学部
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原田 仁平
名大・工
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高橋 功
名大・工
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志村 考功
名大・工
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原田 仁平
名大工
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後藤 明
北大・工
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高橋 功
名古屋大学工学部応用物理学科
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秋谷 和広
北大・工
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高橋 功
名古屋大学・工学部
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山田 一美
名古屋大学・工学部
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梅野 正隆
大阪大学大学院工学研究科
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古川 義純
北大低温研
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香内 晃
北海道大学低温科学研究所
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香内 晃
北大低温研
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前 晋爾
北大工
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古川 義純
北大・低温研
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本堂 武夫
北大工
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原田 仁平
名古屋大学
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飯田 裕
名大・工
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伊藤 洋文
名古屋大学工学部
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中野 晃軌
名大・工
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志村 孝功
阪大・工
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梅野 正隆
阪大・工
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佐俣 秀一
東芝半導体技術部
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後藤 明
北大工
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黒田 登志雄
北大低温研
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黒田 登志雄
北大・低温研
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黒田 登志雄
北海道大学低温科学研究所
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伊藤 洋文
名古屋大学・工学部
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大見 俊一郎
東京工業大学
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大見 俊一郎
東京工業大学・総合理工学研究科
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竹田 美和
名古屋大学工学研究科結晶材料工学専攻
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志村 考功
名大工
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川合 知二
阪大・産研
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竹田 美和
名古屋大学
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栗林 勝
理学電機(株)
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栗林 勝
理学電機(株)x線研究所
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田畑 仁
阪大・産研
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宮崎 徹也
名大・工
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本堂 武夫
北大・工
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本堂 武夫
北大・低温研
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原田 仁平
理学電機
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高橋 功
名大工
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前 晋爾
北大工:(現)旭川工専
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前 晋爾
北大・工
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山田 直樹
福井大学工学研究科電気・電子工学専攻
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藤林 桂
名古屋大学工学部材料機能工学科
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山田 直樹
名古屋大学工学部材料機能工学科
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隈元 隆行
名古屋大学工学部材料機能工学科
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田渕 雅夫
名古屋大学工学部材料機能工学科
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原田 仁平
電気通信大学自然科学系
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伊藤 洋分
名大工
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原田 仁平
電通大
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川崎 宏治
東京工業大学・総合理工学研究科
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古川 静二郎
東京工業大学・総合理工学研究科
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Sokolov N.S.
A.F.Ioffe Phisico-Technical Institute, Russia
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山田 一美
名大・工
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志村 孝功
名大・工
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大沢 登
理学電機
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松下 嘉明
東芝半導体技術部
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川崎 宏治
東京工業大学院総理工
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Sokolov N.s.
A.f.ioffe Phisico-technical Institute Russia
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田淵 雅夫
名大工
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秋谷 和広
北大工
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天野 憲広
名大工
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飯田 裕
名大工
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南 桂一
北大工
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大見 俊一郎
東京工業大学大学院総合理工学研究科
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橋本 眞也
いわき明星大学理工学部
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古川 静二郎
東京工業大学 大学院総合理工学研究科
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橋本 眞也
いわき明星大 理工
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高橋 功
関西学院大学大学院理工学研究科
-
高橋 功
関西学院大学 大学院理工学研究科
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田渕 雅夫
名古屋大学
著作論文
- Si(111)面上CaF_2薄膜の界面構造
- X線CTR散乱によるInP/InAsP/InP界面の構造解析
- 2a-Q-13 X線CTR散乱を用いた強誘電体薄膜の界面構造の評価
- X線散乱による結晶成長表面・界面の評価 (原子レベルでの結晶成長機構) -- (成長表面と界面構造)
- 14p-DL-10 シリコン(001)面上に成長した微細結晶相の構造 : 低温酸化の場合
- 15a-DJ-13 Si(111)表面のエッチング処理による形態変化 : X線CTR散乱による研究
- 14a-ZA-3 Si(001)上の酸化物微細結晶相
- 13a-Y-10 X線CTR散乱によるCaF_2/Si(111)界面構造と育成条件の研究
- 25p-S-7 X線CTR散乱法を用いた氷I_h結晶の表面構造の研究 IV
- 27p-PSA-25 回転対陰極を用いたバンザイ型X線回折計の開発
- 26p-F-4 X線CTR散乱によるSi(001)表面上のSiO_2薄膜の構造解析
- 30a-ZB-7 X線解析を用いたSi熱酸化膜中微細結晶相の研究(3)
- 30a-ZB-4 X線回折法による氷の表面融解に関する研究 III
- 27a-L-8 X線CTR散乱によるSio_2/Si(001)の構造研究II
- 27a-Q-1 X線回折法による氷の表面融解に関する研究 II
- 5a-TA-3 熱酸化したSi(001)表面からのX線反射率の測定
- 5a-TA-1 複結晶X線回折法による氷の表面融解に関する研究
- 微焦点X線源を用いた高精細画像
- 8p-B-14 結晶表面層の微視的原子構造の表現とX線散乱