2a-Q-13 X線CTR散乱を用いた強誘電体薄膜の界面構造の評価

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概要

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• 社団法人日本物理学会の論文
• 1994-08-16

著者

• 高橋 功

  関西学院大学理学部

• 川合 知二

  阪大・産研

• 田畑 仁

  阪大・産研

• 原田 仁平

  理学電機(株)x線研究所

• 高橋 功

  名大工

• 伊藤 洋分

  名大工

• 原田 仁平

  電通大

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