古川 静二郎 | 東京工業大学・総合理工学研究科

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概要

• 同名の論文著者
• 東京工業大学・総合理工学研究科の論文著者

関連著者

• 古川 静二郎

  東京工業大学・総合理工学研究科

• 古川 静二郎

  東京工業大学 大学院総合理工学研究科

• 大見 俊一郎

  東京工業大学

• 石原 宏

  東京工業大学

• 大見 俊一郎

  東京工業大学・総合理工学研究科

• 高橋 功

  関西学院大学理学部

• 原田 仁平

  理学電機(株)x線研究所

• 原田 仁平

  名古屋大学

• 伊藤 洋文

  名古屋大学工学部

• 高橋 功

  名古屋大学工学部応用物理学科

• 川崎 宏治

  東京工業大学・総合理工学研究科

• Sokolov N.S.

  A.F.Ioffe Phisico-Technical Institute, Russia

• 石原 宏

  東京工業大学精密工学研究所

• 川崎 宏治

  東京工業大学院総理工

• Sokolov N.s.

  A.f.ioffe Phisico-technical Institute Russia

• 大見 俊一郎

  東京工業大学大学院総合理工学研究科

• 古川 静二郎

  東京工大

• 佐々木 公洋

  東京工業大学総合理工学研究科

• 坂野 順一

  東京工業大学大学院総合理工学研究科

• 高橋 功

  名古屋大学・工学部

• 伊藤 洋文

  名古屋大学・工学部

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著作論文

• Magneto-TLM法を用いた半導体デバイス電極下の移動度変化によるひずみの評価
• 13a-Y-10 X線CTR散乱によるCaF_2/Si(111)界面構造と育成条件の研究
• 導電性・絶縁性材料と半導体とのヘテロエピタキシャル成長
• 新世代LSIに期待する (新世代LSIと新しいニ-ズ)
• 微細加工入門-23-クリ-ンル-ムとその関連技術
• 微細加工入門-24完-微細加工Q&A-3-
• 微細加工入門-22-検査・評価技術-2-電気的特性の測定
• 微細加工入門-21-検査・評価技術-1-電子顕微鏡による観察
• 微細加工入門-20-エピタキシャル成長技術
• 微細加工入門-19-微細加工Q&A-2-
• アモルファスSiCヘテロエミッタトランジスタ : バイポーラトランジスタの高速化の新手法
• ひずみ補償によるSiGeB/Siヘテロ構造のB熱安定性向上
• "夢"の実現に向けて
• 新概念のデバイスを探る
• 3次元デバイス
• ヘテロ材料のヘテロエピタキシ法とその応用(学術研究の動向)
• 博士課程進学者の頭打ち傾向を憂える (21世紀への応用物理) -- (教育と研究の現状)
• 微細加工入門-18-自己整合技術(セルフアライメント)

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