石原 宏 | 東京工業大学精密工学研究所

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概要

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• 石原 宏

  東京工業大学精密工学研究所

• 石原 宏

  東京工業大学

• 石原 宏

  東工大

• 古川 静二郎

  東京工業大学 大学院総合理工学研究科

• 遠藤 守

  東工大・工

• 古川 静二郎

  東京工業大学・総合理工学研究科

• 古川 静二郎

  東工大工

• 夏秋 信義

  東工大工

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  東工大工

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  東工大工

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  東工大工

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著作論文

• 導電性・絶縁性材料と半導体とのヘテロエピタキシャル成長
• LSIと不純物導入技術--拡散およびイオン注入法
• 注入イオン分布とその関連現象
• 8a-Y-1 Si^+注入したSi単結晶中の欠陥分布とDechannelling
• MOSトランジスタの動作原理
• 強誘電体ゲートFETの現状と問題点
• 強誘電体ゲートFETの作製とニューロン回路への応用
• 高誘電体・強誘電体薄膜のメモリデバイスへの応用
• 息の長い研究
• 強誘電体薄膜のニューロデバイスへの応用
• どこまで速くなるか? トランジスタの動作速度

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