招待講演 最新半導体デバイスの環境中性子線エラー--デザインルール22nmへのインパクトと対策 (電子部品・材料)

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概要

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• 2009-12-02

著者

• 伊部 英史

  日立製作所生産技術研究所

• 新保 健一

  日立製作所生産技術研究所

• 谷口 斉

  日立製作所生産技術研究所

• 鳥羽 忠信

  日立製作所生産技術研究所

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