軟X線吸収発光分光法によるSi02/Si界面電子状態のサイト選択的観測 (第24回表面科学講演大会論文特集(3))

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概要

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• 日本表面科学会の論文

著者

• 山下 良之

  物材機構

• 向井 孝三

  東大物性研

• 山本 達

  東京大学物性研究所

• 山本 達

  東大物性研

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