2J06 ゾル・ゲル法による強誘電体 Sr_<0.3>Ba_<0.7>Nb_2O_6(SBN30) エピタキシャル薄膜の作製
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概要
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- 日本セラミックス協会の論文
- 1998-10-01
著者
-
西尾 圭史
東理大基礎工
-
渡辺 裕一
東京理科大学基礎工学部材料工学科
-
西尾 圭史
東京理科大学基礎工学部
-
渡辺 裕一
東理大基礎工
-
土谷 敏雄
東理大基礎工
-
関 信博
東理大基礎工
-
土谷 敏雄
東京理大 基礎工
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