西尾 圭史 | 東京理科大学基礎工学部
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概要
関連著者
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西尾 圭史
東京理科大学基礎工学部
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土谷 敏雄
東京理大 基礎工
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渡辺 裕一
東京理科大学基礎工学部材料工学科
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西尾 圭史
東理大基礎工
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土谷 敏雄
東理大・基礎工
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渡辺 裕一
東理大基礎工
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土谷 敏雄
東理大基礎工
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土谷 敏雄
東理大
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渡辺 裕一
東理大
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土谷 敏雄
東京理科大学基礎工学部材料工学科
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土谷 敏雄
東京理科大学理工学部工業化学科
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川原 稔央
東京理科大学基礎工学部材料工学科
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安盛 敦雄
東京理科大学基礎工学部材料工学科
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木練 透
山口東京理科大学基礎工学部物質・環境工学科
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土谷 敏雄
東京理科大学基礎工学部
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安盛 敦雄
東京理科大学基礎工学部
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安盛 敦雄
東京理科大学 基礎工学部 材料工学科
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橋本 和明
千葉工業大学大学院
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中村 聡
Institute Of Biomaterials And Bioengineering Tokyo Medical And Dental University
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山下 仁大
東京医科歯科大学生体材料工学研究所素材部門
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橋本 和明
千葉工業大学大学院:千葉工業大学工学部生命環境科学科
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山下 仁大
東京医歯大 生体材料工研
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山下 仁大
日産厚生会玉川病院 整形外科
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中村 聡
東京医科歯科大学生体材料工学研究所索材部門
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杉山 弘晃
東京理科大学基礎工学部材料工学科
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福田 良平
東京理科大学基礎工学部材料工学科
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和田 多美絵
東京理科大学基礎工学部材料工学科
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岸 臣樹
東京医科歯科大学生体材料工学研究所無機材料分野
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犬塚 真博
東京医科歯科大学生体材料工学研究所無機材料分野
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戸田 善朝
千葉工業大学工学部工業化学科
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角田 安隆
東京理科大学基礎工学部材料工学科
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中島 隆志
東理大
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齋藤 朗
東理大
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小平 泰明
東理大基礎工
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並河 学
東理大基礎工
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長南 孝
東理大基礎工
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大久保 康次
東理大
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宮沢 勉
東理大
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井上 素宏
東理大基礎工
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森岡 俊道
東理大基礎工
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山名 紀
東理大基礎工
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青木 径
東理大
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工藤 千賀子
東理大
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清 忠師
東京理科大学基礎工学部材料工学科
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宮澤 勉
東理大基礎工
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関 信博
東理大基礎工
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杉本 亮
東理大基礎工
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戸田 善朝
千葉工大
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戸田 善朝
千葉工業大学
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山下 仁大
東京医科歯科大学生体材料工学研究所
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山下 仁大
東京医科歯科大学生体材料工学研究所 素材部門 無機材料分野
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中村 聡
東京医科歯科大学生体材料工学研究所 素材部門 無機材料分野
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清 忠師
愛知学院大学教養部
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中村 聡
東京医科歯科大学生体材料工学研究所
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橋本 和明
千葉工業大学工学部工業化学科
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Sei Tadanori
Faculty Of Industrial Science And Technology Science University Of Tokyo
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Sei Tadanori
Division Of General Education Aichi Gakuin University
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山下 仁大
東京医科歯科大学 生体材料工学研究所 無機材料分野
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橋本 和明
千葉工業大学 工学部 生命環境科学科
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犬塚 真博
東医歯大・生材研・無機:千工大・院・工
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山下 仁大
東京医科歯科大学 生体材料工学研究所
著作論文
- ゾル-ゲル法と放電プラズマ焼結法を併用した機能性セラミックスの創製
- ゾル-ゲル法と放電プラズマ焼結法の併用によるZrW_2O_8/NiWO_4複合焼結体の作製
- 負の熱膨張を示すタングステン酸ジルコニウムのゾル-ゲル法による合成と熱膨張挙動に与える影響
- ベクトル材料科学に基づくジルコニアバイオセラミックスの生体活性化
- エレクトロクロミズムとその応用
- ゾル・ゲル法による次世代メモリー用強誘電体エピタキシャル積層膜の作製 (特集 21世紀に開花するニューマテリアルとそのテクノロジーへの招待--東京理科大学における先端材料研究)
- ディップコーティング法によるエレクトロクロミックλ-MnO_2薄膜の作製と物性
- 2A09 ゾル・ゲル法によるアパタイト構造を有する Ln_x(SiO_4)_6O_(Ln : Nd, La) 系酸素イオン伝導体の作製と電気特性評価
- 1E06 ゾル・ゲル法により作製したビスマス層状構造強誘電体 Bi_2WO_6 エピタキシャル薄膜の電気特性
- 2I03 ゾル・ゲル法により作製したエピタキシャル SrRuO_3 薄膜の評価
- 1K18 フェムト秒レーザー光が誘起するリン酸カルシウムガラスの感光特性
- 1K15 TiO_2 単結晶のフェムト秒パルス光に対する非線形光学特性
- 2H01 ゾル・ゲル法により作製した有機-無機イオン伝導体の構造解析
- 2F02 Z-scan 法による酸化物ガラス中の 3 光子吸収の観測と評価
- 2A11 ゾル・ゲル法による SOFC 用カソード材薄膜の作製と評価
- 1D04 ゾル・ゲル法によるエピタキシャル Bi_2WO_6 薄膜の作製と評価
- ゾル-ゲル法によるエレクトロクロミック酸化タングステン薄膜の作製
- 2J23 ゾル-ゲル法による有機-無機ハイブリッド固体電解質の作製と電気特性 (II)
- 2J06 ゾル・ゲル法による強誘電体 Sr_Ba_Nb_2O_6(SBN30) エピタキシャル薄膜の作製
- 2J05 ゾル・ゲル法による Ba_2Ti_9O_ 系マイクロ波誘電体の作製及び物性評価