西尾 圭史 | 東京理科大学基礎工学部
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概要
関連著者
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西尾 圭史
東京理科大学基礎工学部
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土谷 敏雄
東京理大 基礎工
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渡辺 裕一
東京理科大学基礎工学部材料工学科
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西尾 圭史
東理大基礎工
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土谷 敏雄
東理大・基礎工
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渡辺 裕一
東理大基礎工
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土谷 敏雄
東理大基礎工
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土谷 敏雄
東理大
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渡辺 裕一
東理大
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土谷 敏雄
東京理科大学基礎工学部材料工学科
著作論文
- ゾル-ゲル法と放電プラズマ焼結法を併用した機能性セラミックスの創製
- ゾル-ゲル法と放電プラズマ焼結法の併用によるZrW_2O_8/NiWO_4複合焼結体の作製
- 負の熱膨張を示すタングステン酸ジルコニウムのゾル-ゲル法による合成と熱膨張挙動に与える影響
- ベクトル材料科学に基づくジルコニアバイオセラミックスの生体活性化
- エレクトロクロミズムとその応用
- ゾル・ゲル法による次世代メモリー用強誘電体エピタキシャル積層膜の作製 (特集 21世紀に開花するニューマテリアルとそのテクノロジーへの招待--東京理科大学における先端材料研究)
- ディップコーティング法によるエレクトロクロミックλ-MnO_2薄膜の作製と物性
- 2A09 ゾル・ゲル法によるアパタイト構造を有する Ln_x(SiO_4)_6O_(Ln : Nd, La) 系酸素イオン伝導体の作製と電気特性評価
- 1E06 ゾル・ゲル法により作製したビスマス層状構造強誘電体 Bi_2WO_6 エピタキシャル薄膜の電気特性
- 2I03 ゾル・ゲル法により作製したエピタキシャル SrRuO_3 薄膜の評価