渡辺 裕一 | 東京理科大学基礎工学部材料工学科
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概要
関連著者
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渡辺 裕一
東京理科大学基礎工学部材料工学科
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西尾 圭史
東京理科大学基礎工学部
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東京理大 基礎工
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東理大基礎工
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藤津 悟
湘南工科大学マテリアル工学科
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藤津 悟
湘南工科大
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土谷 敏雄
東京理科大学理工学部工業化学科
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加藤 英治
東京理科大学基礎工学部材料工学科
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角田 安隆
東京理科大学基礎工学部材料工学科
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中島 隆志
東理大
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齋藤 朗
東理大
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小平 泰明
東理大基礎工
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並河 学
東理大基礎工
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長南 孝
東理大基礎工
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大久保 康次
東理大
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宮沢 勉
東理大
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井上 素宏
東理大基礎工
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森岡 俊道
東理大基礎工
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山名 紀
東理大基礎工
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青木 径
東理大
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工藤 千賀子
東理大
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宮澤 勉
東理大基礎工
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関 信博
東理大基礎工
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杉本 亮
東理大基礎工
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塚本 桓世
東京理科大学理学部応用物理学科
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塚本 桓世
東京理科大学大学院理学研究科
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塚元 桓世
東京理科大学理学部応用物理学科
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中澤 正志
東京理科大学基礎工学部材料工学科
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土谷 敏雄
東京理科大学基礎工学部材料工学科
著作論文
- ディップコーティング法によるエレクトロクロミックλ-MnO_2薄膜の作製と物性
- 2A09 ゾル・ゲル法によるアパタイト構造を有する Ln_x(SiO_4)_6O_(Ln : Nd, La) 系酸素イオン伝導体の作製と電気特性評価
- 1E06 ゾル・ゲル法により作製したビスマス層状構造強誘電体 Bi_2WO_6 エピタキシャル薄膜の電気特性
- 2I03 ゾル・ゲル法により作製したエピタキシャル SrRuO_3 薄膜の評価
- 1K18 フェムト秒レーザー光が誘起するリン酸カルシウムガラスの感光特性
- 1K15 TiO_2 単結晶のフェムト秒パルス光に対する非線形光学特性
- 2H01 ゾル・ゲル法により作製した有機-無機イオン伝導体の構造解析
- 2F02 Z-scan 法による酸化物ガラス中の 3 光子吸収の観測と評価
- 2A11 ゾル・ゲル法による SOFC 用カソード材薄膜の作製と評価
- 1D04 ゾル・ゲル法によるエピタキシャル Bi_2WO_6 薄膜の作製と評価
- 2J23 ゾル-ゲル法による有機-無機ハイブリッド固体電解質の作製と電気特性 (II)
- 2J06 ゾル・ゲル法による強誘電体 Sr_Ba_Nb_2O_6(SBN30) エピタキシャル薄膜の作製
- 2J05 ゾル・ゲル法による Ba_2Ti_9O_ 系マイクロ波誘電体の作製及び物性評価
- ゾル・ゲル法による高配向したチタン酸ビスマス薄膜の作製
- 配向性透明酸化亜鉛の二光子吸収係数の測定
- 酸化亜鉛の配向性制御と光学的機能
- 非線形光学効果の基礎 - 現象と応用