土谷 敏雄 | 東理大基礎工
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概要
関連著者
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土谷 敏雄
東理大基礎工
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土谷 敏雄
東京理大 基礎工
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西尾 圭史
東理大基礎工
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渡辺 裕一
東京理科大学基礎工学部材料工学科
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西尾 圭史
東京理科大学基礎工学部
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渡辺 裕一
東理大基礎工
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渡邉 裕一
東理大基礎工
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土谷 敏雄
東理大
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清 忠師
東理大基礎工
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谷俊 朗
共生科学技術研究院
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時崎 高志
産総研ナノテク:sorst-jst
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小貫 哲平
東理大基礎工
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小貫 哲平
SORST-JST
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時崎 高志
電総研
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杉山 和弘
東理大基礎工
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渡邊 裕一
東理大基礎工
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谷 俊朗
農工大工・物理システム
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谷 俊朗
電総研
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横山 浩
産総研ナノテク:jst Erato Sorst
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加藤 英治
東京理科大学基礎工学部材料工学科
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幡野 純
東理大基礎工
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時崎 高志
産総研
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加藤 英治
東理大基礎工
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横山 浩
産総研ナノテク:sorst-jst
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山下 仁大
東京医歯大 生体材料工研
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小平 泰明
東理大基礎工
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並河 学
東理大基礎工
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長南 孝
東理大基礎工
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井上 素宏
東理大基礎工
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森岡 俊道
東理大基礎工
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山名 紀
東理大基礎工
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宮澤 勉
東理大基礎工
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関 信博
東理大基礎工
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杉本 亮
東理大基礎工
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木下 博章
理工
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江本 知広
東理大基礎工
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斉藤 浩幸
岩崎通信機
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袴田 洋代
東理大基礎工
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神田 英彰
東理大基礎工理工
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大柿 真毅
東医歯大・生材研
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山田 健一
東京医歯大生材研
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中村 聡
東京医歯大生材研
-
大柿 真毅
東京医歯大生材研
著作論文
- 2I03 ゾル・ゲル法により作製したエピタキシャル SrRuO_3 薄膜の評価
- 1K18 フェムト秒レーザー光が誘起するリン酸カルシウムガラスの感光特性
- 1K15 TiO_2 単結晶のフェムト秒パルス光に対する非線形光学特性
- 2F02 Z-scan 法による酸化物ガラス中の 3 光子吸収の観測と評価
- 2J23 ゾル-ゲル法による有機-無機ハイブリッド固体電解質の作製と電気特性 (II)
- 2J06 ゾル・ゲル法による強誘電体 Sr_Ba_Nb_2O_6(SBN30) エピタキシャル薄膜の作製
- 2J05 ゾル・ゲル法による Ba_2Ti_9O_ 系マイクロ波誘電体の作製及び物性評価
- 3C13 ゾル・ゲル法により作製した SiO_2 系薄膜の膜および界面状態の評価
- 3C12 ゾル・ゲル法による ZnO 薄膜の作製と物性
- 1B02 ゾルゲル法による窒化アルミニウムの作製
- 1A10 ゾル・ゲル法によるゲルマン酸鉛薄膜の作製と物性
- 3B37 ディップコーティング法による磁気光学ガーネット型フェライト薄膜の作製と物性 (II)
- 2C13 ゾル・ゲル法による PbTiO_3 薄膜の作製と物性
- 20aRF-5 変調ドープGaAs量子構造の磁場中における近接場分光
- 20aRF-5 変調ドープGaAs量子構造の磁場中における近接場分光
- 28p-ZE-1 近接場光学顕微鏡像に対するプローブ内電場分布の影響II
- 27a-YE-9 近接場光学顕微鏡像に対するプローブチップ内電場分布の影響
- 30a-YH-3 近接場光学顕微鏡によるファイバー端面上の薄膜の観測
- 5p-J-7 光ファイバー端面に蒸着された薄膜の近接場光学顕微鏡による観測
- 1J25 分極処理した部分安定化ジルコニアの生体外評価