二次イオン質量分析法における低エネルギーイオン照射下二次イオン放出挙動に関する基礎的検討
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概要
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The sputtering behavior of secondary ion from copper surface against primary ion energy less than 3 keV has been studied. A remarked increase of relative ionization coefficient of sputtered ion was observed. This result suggests the existence of another sputteirng mechanism in a low energy region less than 1 keV. The neutralization and re-ionization of irradiated ion in this energy region may cause the change of ionization efficiency.
- 日本質量分析学会の論文
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