レーザーアブレーション法によるDLC膜特性に及ぼすB、N添加の影響
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概要
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レーザーアブレーション法によりホウ素または窒素、もしくはその両方を添加したDLC膜を作製し、作製条件による構造、機械的特性、電気特性などを系統的に評価した。DLC膜にBまたはN、もしくはその両方を添加することにより内部応力が減少した。スクラッチ試験の結果からBを添加した膜の方が無添加DLC膜より臨界荷重は増加した。また、Nを添加したDLC膜とBとN両方を添加したDLC膜では添加していないDLC膜よりはるかに高い臨界荷重を示す最適な窒素圧力が存在することがわかった。一方、BまたはN、もしくはその両方を添加した膜はある窒素圧力下で無添加DLC膜よりも低い電気抵抗率を示した。
- 2011-08-03
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