遅澤 遼一 | 弘前大学大学院理工学研究科

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概要

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関連著者

• 遅澤 遼一

  弘前大学大学院理工学研究科

• 中澤 日出樹

  弘前大学大学院理工学研究科

• 中澤 日出樹

  弘前大学理工学部

• 毛内 裕介

  弘前大学大学院理工学研究科

• 中澤 日出樹

  弘前大学

• 鈴木 大樹

  弘前大学大学院理工学研究科

• 岡本 浩

  弘前大学大学院理工学研究科

• 岡本 浩

  弘前大学大学院 理工学研究科

• 鈴木 大樹

  弘前大学理工学部

著作論文

• レーザーアブレーション法によるSi基板上AlN薄膜の形成
• レーザーアブレーション法によるDLC膜特性に及ぼすB、N添加の影響 (電子部品・材料)
• レーザーアブレーション法によるDLC膜特性に及ぼすB、N添加の影響
• レーザーアブレーション法によるDLC膜特性に及ぼすB、N添加の影響

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