鈴木 大樹 | 弘前大学大学院理工学研究科

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概要

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• 鈴木 大樹

  弘前大学大学院理工学研究科

• 中澤 日出樹

  弘前大学理工学部

• 中澤 日出樹

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• 山本 陽平

  弘前大学理工学部

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• 岡本 浩

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著作論文

• レーザーアブレーション法によるSi基板上AlN薄膜の形成
• レーザーアブレーション法によるAIN成長のSi基板面方位依存性
• Si(100)基板/AlN中間層上への3C-SiCヘテロエピタキシャル成長 (電子部品・材料)
• Si基板上へのAlN層の形成およびSi/AlN上への3C-SiC成長 (電子部品・材料)
• Si(100)基板/AlN中間層上への3C-SiCヘテロエピタキシャル成長
• Si基板上へのAlN層の形成およびSi/AlN上への3C-SiC成長(薄膜プロセス・材料,一般)

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