ラインプロセスを用いた樹状突起の膜抵抗分布の統計的推定

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概要

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近年,膜電位の観測値を元に,樹状突起上の膜抵抗の空間分布を推定する手法が提案されている.従来の多くの手法では,膜抵抗値が樹状突起上で一定であると仮定して推定している.しかしながら,実際の膜抵抗は,樹状突起上で不均一に分布しており,また,膜抵抗値が樹状突起に沿って急峻に変化する例も報告されている.そこで本研究では,任意の形の膜抵抗分布に適応可能な推定手法を提案する.提案手法では,膜電位のダイナミクスをケーブル方程式で表し,また,膜抵抗分布をラインプロセスを用いて表現する.ラインプロセスによって,膜抵抗分布が区分的に滑らかであるという制約が課される.これにより,膜抵抗分布がなだらかな変化を持つ場合や急峻な変化を持つ場合など,様々な場合において,真の膜抵抗分布を推定することが可能になる.
2011-02-28

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