超構造薄膜光導波路の形成と特性
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概要
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シリカをベースとして、Ge,Ti,Snをドープしたナノ薄層の周期構造薄膜(超構造薄膜)において、紫外光励起による可視ルミネセンスが観測され、これを利用した光の増幅の可能性がある。超構造薄膜を光デバイス化するには、光導波路の形成が必要である。シリコンや石英基板あるいはLiNbO_3などの基板上に、超構造薄膜光導波路を形成する検討を行い、基本的な形成条件が明らかになった。また、この導波路により微弱ながら、光が増幅されることを確認した。
- 2009-08-03
著者
-
野毛 悟
神奈川工科大学
-
笠原 慧
神奈川工科大
-
野毛 悟
沼津工業高等専門学校電気電子工学科
-
宇野 武彦
神奈川工科大学電気電子工学科
-
宇野 武彦
神奈川工科大
-
宇野 武彦
神奈川工科大学工学部電気電子情報工学科
-
宇野 武彦
神奈川工科大学電気電子情報工学科
-
野毛 悟
沼津工業高等専門学校
-
字野 武彦
神奈川工科大学 電気電子工学科
-
野毛 悟
沼津工業高専電気電子工学科
-
野毛 悟
沼津工業高専 電気電子工学科
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