超小型宇宙機用気液分離システムを目指した撥水ナノ加工技術(O.S.5 宇宙環境の高度利用を目指して,OS5:宇宙環境の高度利用を目指して)
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概要
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A novel technology to fabricate hydrophobic surface in microchannel was developed by using electrochemical etching of N-type silicon. It is found that pores of diameter of a few micrometer are formed in a high density on both bottom and side walls of microchannels. In order to maintain stable wettability, thin deposition of noble metal is also tested and contact angle as high as 155 degree is accomplished. This technique is simple to fabricate and effective for the microchannel-based fluidic systems for the future micro space systems.
- 社団法人日本機械学会の論文
- 2004-10-25
著者
-
高田 保之
九大工
-
高橋 厚史
九大工
-
生田 竜也
九大工
-
生田 竜也
九州大学大学院工学府航空宇宙工学専攻
-
高橋 厚史
九州大学大学院工学研究院航空宇宙工学部門
-
高橋 厚史
九州大学工学部
-
永山 邦仁
九大工
-
高田 保之
Department Of Mechanical Engineering Kyushu University
-
永山 邦仁
九州大学大学院工学研究院航空宇宙工学部門
-
Togitani Kazuto
国立がんセンター中央病院
-
山岸 亮平
九大学
-
高橋 厚史
九大
-
Takata Y
Department Of Mechanical Engineering Science Kyushu University
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