New Ellipsometric Approach to Critical Dimension Metrology Utilizing Form Birefringence Inherent in a Submicron Line-and-Space Pattern
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概要
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- 社団法人応用物理学会の論文
- 1997-12-30
著者
-
TAKEUCHI Seiji
Nanotechnology Research Center, Canon Inc.
-
YOSHII Minoru
Nanotechnology Research Center, Canon Inc.
-
YAMAMOTO Masaki
Research Institute for Scientific Measurements, Tohoku University
-
山本 正樹
東北大学多元物質科学研究所
-
Yoshii Minoru
Nanotechnology Research Center Canon Inc.
-
Yamamoto M
Ntt Electronics Technology Corporation
-
Yamamoto Masafumi
Ntt System Electronics Laboratories
-
Takeuchi Seiji
Nanotechnology Research Center Canon Inc.
-
Yamamoto Masaki
Research Center For Soft X-ray Microscopy Imram Tohoku University
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