Atomic Resolution Imaging on Si(100)2 × 1 and Si(100)2 × 1 : H Surfaces with Noncontact Atomic Force Microscopy
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概要
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- 社団法人応用物理学会の論文
- 2000-02-01
著者
-
森田 清三
大阪大学大学院工学研究科
-
菅原 康弘
大阪大学大学院工学研究科 精密科学・応用物理学専攻
-
SUGAWARA Yasuhiro
Department of Applied Physics, Graduate School of Engineering, Osaka University
-
Sugawara Y
Department Of Applied Physics Graduate School Of Engineering Osaka University
-
Sugawara Yasuhiro
Department Of Electronic Engineering Faculty Of Engineering Osaka University
-
Sugawara Yasuhiro
Department Of Applied Physics Graduate School Of Engineering Osaka University
-
Sugawara Yasuhiro
Department Of Physics Faculty Of Science Hiroshima University
-
Yokoyama Koji
School Of Science And Engineering Waseda University
-
MORITA Seizo
Department of Physics, Faculty of Science, Hiroshima University
-
YOKOYAMA Kousuke
Department of Electronic Engineering, Graduate School of Engineering, Osaka University
-
Yokoyama K
Waseda Univ. Tokyo Jpn
-
OCHI Taketoshi
Department of Electronic Engineering, Graduate School of Engineering, Osaka University
-
YOSHIMOTO Akira
Department of Electronic Engineering, Graduate School of Engineering, Osaka University
-
Morita Seizo
Department Of Electronic Engineering Faculty Of Engineering Iwate University
-
Yoshimoto Akira
Department Of Biological Sciences Graduate School Of Bioscience And Biotechnology Tokyo Institute Of
-
Ochi Taketoshi
Department Of Electronic Engineering Graduate School Of Engineering Osaka University
-
Yoshimoto Akira
Department Of Electronic Engineering Graduate School Of Engineering Osaka University
-
Sugawara Yasuhiro
Deparment Of Electrical Engineering Faculty Of Engineering Tohoku University
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