Uniform RF Discharge Plasmas Produced by a Square Hollow Cathode with Tapered Shape
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概要
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- 社団法人応用物理学会の論文
- 1998-01-15
著者
-
Sugawara Mitsuru
北海道大学 薬学研究臨床薬剤学
-
Fukuda T
Gunma Univ. Gunma Jpn
-
Sugawara M
Fujitsu Laboratories Ltd.
-
SUGAWARA Minoru
Department of Electrical Engineering, Faculty of Engineering Gumma University
-
MATSUOKA Akio
Department of Electrical Engineering, Gunma University
-
Sugawara M
Semiconductor Company Sony Corporation
-
FUKUDA Taichi
Department of Electronic Engineering, Gunma University
-
KONDOH Yoshiomi
Department of Electronic Engineering, Gunma University
-
Kondoh Y
Department Of Electronic Engineering Gunma University
-
Kondoh Yoshiomi
Department Of Electrical Engineering College Of Technology Gunma University
-
Sugawara M
Fujitsu Limited And Fujitsu Laboratories Limited
-
Sugawara Minoru
Department Of Electrical Engineering Faculty Of Engineering Gunma University
-
Sugawara Minoru
Department Of Electrical Engineering Faculty Of Engineering Gumma University
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