LiNbO_3エピタキシャル成長と超精密加工技術による導波路型SHGデバイス
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概要
著者
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福田 承生
東北大学 多元物質科学研究所
-
川口 竜生
日本ガイシ(株)応用研究所
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水内 公典
松下電器産業(株)光ディスク開発センター
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山本 和久
松下電器産業(株)光ディスク開発センター
-
吉野 隆史
日本ガイシ(株)応用研究所
-
今枝 美能留
日本ガイシ(株)応用研究所
-
山本 和久
パナソニック
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山本 和久
松下電器産業(株)avコア技術開発センター
-
吉野 隆史
日本ガイシ(株)r&dセンターopプロジェクト
-
川口 竜生
日本ガイシ(株)r&dセンターopプロジェクト
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水内 公典
パナソニック四国エレクトロニクス(株)デバイスプロダクツビジネスユニット
-
水内 公典
松下電器産業(株)avコア技術開発センター
-
今枝 美能留
日本ガイシ(株)
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今枝 美能留
日本ガイシ(株)r&dセンターopプロジェクト
-
今枝 美能留
日本ガイシ株式会社
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山本 和久
松下電器産業
-
Fukuda T
Gunma Univ. Gunma Jpn
-
Fukuda Tsuguo
Institute Of Multidisciplinary Research For Advanced Materials (imram) Tohoku University
-
Fukuda Tsuguo
Optoelectronics Joint-research Laboratory
-
Fukuda T
National Inst. Advanced Industrial Sci. And Technol. Hokkaido Center Sapporo Jpn
-
Fukuda T
Matsushita Communication Industrial Co. Ltd. Yokohama Jpn
-
福田 承生
東北大学 原子分子材料学高等研究機構
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