今枝 美能留 | 日本ガイシ(株)応用研究所

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概要

• 同名の論文著者
• 日本ガイシ(株)応用研究所の論文著者

関連著者

• 今枝 美能留

  日本ガイシ(株)応用研究所

• 今枝 美能留

  日本ガイシ(株)

• 今枝 美能留

  日本ガイシ(株)r&dセンターopプロジェクト

• 今枝 美能留

  日本ガイシ株式会社

• 青木 謙治

  日本ガイシ(株)

• 皆方 誠

  静岡大学電子工学研究所

• 近藤 順悟

  日本ガイシ(株)

• 小塚 義成

  日本ガイシ(株)

• 三冨 修

  日本ガイシ(株)

• 三富 修

  NTT光エレクトロニクス研究所

• 近藤 厚男

  日本ガイシ(株)

• 三冨 修

  電電公社

• 小塚 義成

  日本ガイシ株式会社

• 川口 竜生

  日本ガイシ(株)応用研究所

• 川口 竜生

  日本ガイシ(株)r&dセンターopプロジェクト

• 福田 承生

  東北大学 多元物質科学研究所

• 水内 公典

  松下電器産業(株)光ディスク開発センター

• 山本 和久

  松下電器産業(株)光ディスク開発センター

• 吉野 隆史

  日本ガイシ(株)応用研究所

• 山本 和久

  パナソニック

• 山本 和久

  松下電器産業(株)avコア技術開発センター

• 吉野 隆史

  日本ガイシ(株)r&dセンターopプロジェクト

• 水内 公典

  パナソニック四国エレクトロニクス(株)デバイスプロダクツビジネスユニット

• 水内 公典

  松下電器産業(株)avコア技術開発センター

• 森 務

  日本ガイシ(株)

• 江尻 哲也

  日本ガイシ(株)

• 山本 和久

  松下電器産業

• Fukuda T

  Gunma Univ. Gunma Jpn

• 水野 幸夫

  日本ガイシ(株)

• 高辻 沙織

  日本ガイシ(株)

• 皆方 誠

  静岡大学電子研

• 柿本 浩一

  九州大学機能物質科学研究所科

• 中島 啓幾

  早稲田大学大学院先進理工学研究科

• 福田 承生

  東北大金研

• 中島 啓幾

  早稲田大学先進理工学研究科

• 中島 啓幾

  早稲田大学

• 福田 承生

  東北大・金研

• 北岡 康夫

  松下電器産業(株) メディア制御システム開発センター

• 栗村 直

  物質・材料研究機構:早稲田大学先進理工学研究科

• 加藤 祐嗣

  早稲田大学大学院理工学研究科

• 丸山 真幸

  早稲田大学大学院理工学研究科

• 栗村 直

  早稲田大学大学院理工学研究科

• 山口 省一郎

  日本ガイシ株式会社

• 柿本 浩一

  九州大学応用力学研究所

• 皆方 誠

  静岡大学

• 下平 沙織

  日本ガイシ(株)

• 岩田 雄一

  日本ガイシ(株)

• 浜島 章

  日本ガイシ(株)

• 大内 龍一

  日本ガイシ株式会社

• 松沢 素一郎

  日本ガイシ株式会社

• 永田 久美

  東北大金研

• 柿本 浩一

  九州大学機能物質科学研究所

• 皆方 誠

  静岡大学工学部電子工学研究所

• Chani V.I.

  東北大学際センター

• Fukuda Tsuguo

  Institute Of Multidisciplinary Research For Advanced Materials (imram) Tohoku University

• Fukuda Tsuguo

  Optoelectronics Joint-research Laboratory

• Fukuda T

  National Inst. Advanced Industrial Sci. And Technol. Hokkaido Center Sapporo Jpn

• 栗村 直

  独立行政法人物質・材料研究機構ナノマテリアル研究所

• 中島 啓機

  早稲田大学理工学研究科

• Fukuda T

  Matsushita Communication Industrial Co. Ltd. Yokohama Jpn

• 福田 承生

  東北大学 原子分子材料学高等研究機構

• 松沢 素一郎

  日本ガイシ (株) 研究開発本部

• 栗村 直

  早稲田大学 理工学部物理学科

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著作論文

• LiNbO_3エピタキシャル成長と超精密加工技術による導波路型SHGデバイス
• 貼合わせ・リッジ構造LN光導波路を用いたQPM-SHGデバイス(量子光学,非線形光学,超高速現象,レーザ基礎から応用,その他一般)
• 液相エピタキシャル成長LiNbO_3薄膜によるQPM-SHGデバイスの作製
• ZnドープLiNbO_3を用いた擬似位相整合差周波発生波長変換デバイス(フォトニックネットワーク用デバイス技術,及びその応用,一般)
• C-4-42 駆動電圧2V XカットLiNbO_3薄板型光変調器(C-4.レーザ・量子エレクトロニクス)
• C-3-99 低駆動電圧 X-cut LiNbO_3 薄板型光変調器
• C-3-53 40Gb/s用X-cut LiNbO_3光変調器モジュール
• 裏溝構造LiNbO_3光導波路を用いた低駆動電圧高速変調器
• C-3-3 40Gb/s・2.8V x-cut LiNbO_3裏溝付き光変調器
• C-14-10 MZ-LN光変調器とFBGフィルタによるn逓倍ミリ波発生(C-14. マイクロ波フォトニクス, エレクトロニクス1)
• Germany-Japan-Poland (GJP) Crystal Growth Meeting参加報告(閑話休題)
• 固相反応法によるフェライト単結晶の育成
• KLN系化合物薄膜結晶の作成及びその評価 : バルク成長III

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