ハーフトーン位相シフトリソグラフィ技術

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概要

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ハーフトーン位相シフトマスク(HPM)は単一ホールパタンと解像度向上および焦点深度の向上に有効である。また、製造工程は従来マスクと同様であり、より実用化に近い位相シフト技術といえる。HPMの実用化では、マスク欠陥修正法、及びマスク周辺部での漏れ光による露光を抑止する、暗部形成法の確立が必要である。欠陥修正では欠陥を黒化することにより修正可能である事が判った。マスク周辺部への暗部形成は適正面積比率に解像限界以下のパタンを配置することにより達成できた。さらに、適正位置に補助パタンを付加し高コヒーレント照明下でパタン転写することにより、大幅な焦点深度拡大が可能であることを明らかにした。
社団法人電子情報通信学会の論文
1994-10-19

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