ハーフトーン位相シフトリソグラフィ技術
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概要
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ハーフトーン位相シフトマスク(HPM)は単一ホールパターンの解像度向上および焦点深度の向上に有効である.また,製造工程は従来マスクと同様であり,より実用化に近い位相シフト技術といえる.我々はHPMの実用化に必要な,マスク欠陥修正法,およびマスク周辺部での漏れ光による露光を抑止する,暗部形成法を開発した.欠陥修正では欠陥を黒化することにより修正可能であることがわかった.マスク周辺部への暗部形成は適正面積比率に解像限界以下のパターンを配置することにより達成できた.更に,適正位置に補助パターンを付加し高コヒーレント照明下でパターン転写することにより,大幅な焦点深度拡大が可能であることをシミュレーションにより明らかにし,実験により確認した.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1995-11-25
著者
-
田中 稔彦
(株)日立製作所中央研究所
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寺澤 恒男
(株)日立製作所中央研究所
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村井 二三夫
日立製作所 中央研究所
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村井 二三夫
(株)日立製作所中央研究所
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長谷川 昇雄
(株)日立製作所デバイス開発センタ
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寺澤 恒男
半導体MIRAIプロジェクト 技術研究組合 超先端電子技術開発機構
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今井 彰
(株)日立製作所デバイス開発センタ
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寺澤 恒男
日立 中研
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早野 勝也
(株)日立製作所中央研究所
-
大木 由美子
(株)日立製作所中央研究所
-
早野 勝也
(株)日立製作所デバイス開発センタ
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