ハーフトーン位相シフトマスクを用いたコマ収差測定法の検討

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概要

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ULSIの高集積化に伴う微細化要求に対して光リソグラフィ技術においては、用途に応じて最適な超解像技術を選択し、解像限界に近いパターン寸法の形成を実現してきている。しかしこのような各種の超解像技術では、従来問題とならなかった小さなレンズ収差が結像性能に影響することが知られており、近年この影響が無視できなくなっている。これら各種レンズ収差の測定については種々検討されているが、定量的に収差量を求める事は難しいという問題があった。今回、ハーフトーン位相シフトマスク(Half-tone phase-shifting Mask : HTPSM)を用いた場合に発生するサイドピークの非対称性を利用してComa収差量を簡単且つ定量的に測定する方法について検討したので報告する。
1998-11-20

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