田中 稔彦 | (株)日立製作所中央研究所

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概要

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関連著者

• 田中 稔彦

  (株)日立製作所中央研究所

• 寺澤 恒男

  半導体MIRAIプロジェクト 技術研究組合 超先端電子技術開発機構

• 田中 稔彦

  半導体miraiプロジェクト 技術研究組合 超先端電子技術開発機構

• 樋口 哲也

  産業技術総合研究所

• 坂無 英徳

  産業技術総合研究所

• 樋口 哲也

  筑波大学大学院システム情報工学研究科

• 須賀 治

  (株)半導体先端テクノロジーズ

• 野里 博和

  独立行政法人産業技術総合研究所

• 坂無 英徳

  独立行政法人産業技術総合研究所

• 村川 正宏

  独立行政法人産業技術総合研究所半導体miraiプロジェクト

• 樋口 哲也

  独立行政法人産業技術総合研究所半導体miraiプロジェクト

• 松縄 哲明

  筑波大学大学院 システム情報工学研究科

• 樋口 哲也

  産業技術総合研究所 情報技術研究部門

• 樋口 哲也

  産業技術総合研究所 次世代半導体研究センター

• 高橋 栄一

  産業技術総合研究所

• 寺澤 恒男

  (株)日立製作所中央研究所

• 高橋 栄一

  産業技術総合研究所情報技術研究部門

• 村井 二三夫

  日立製作所 中央研究所

• 村川 正宏

  半導体MIRAIプロジェクト,産業技術総合研究所次世代半導体研究センター

• 松縄 哲明

  筑波大学大学院システム情報工学研究科

• 野里 博和

  半導体MIRAIプロジェクト 産業技術総合研究所 次世代半導体研究センター

• 坂無 英徳

  半導体MIRAIプロジェクト 産業技術総合研究所 次世代半導体研究センター

• 田中 稔彦

  日立製作所中央研究所

• 今井 彰

  (株)日立製作所デバイス開発センタ

• 高橋 栄一

  独立行政法人産業技術総合研究所情報技術研究部門

• 村川 正宏

  産業技術総合研究所

• 村井 二三夫

  (株)日立製作所中央研究所

• 長谷川 昇雄

  (株)日立製作所デバイス開発センタ

• 高橋 栄一

  半導体MIRAIプロジェクト,産業技術総合研究所次世代半導体研究センター

• 内野 正市

  (株)日立製作所 中央研究所

• 寺澤 恒男

  日立 中研

• 大木 由美子

  (株)日立製作所中央研究所

• 寺澤 恒男

  (株)半導体先端テクノロジーズ

• 田中 稔彦

  (株)半導体先端テクノロジーズ

• 早野 勝也

  (株)日立製作所デバイス開発センタ

• 野里 博和

  産業技術総合研究所

• 峰 利之

  日立製作所 中央研究所

• 峰 利之

  (株)日立製作所中央研究所

• 長谷川 昇雄

  日立製作所中央研究所

• 村田 信治

  東邦大学大学院理学研究科情報科学専攻

• 松縄 智明

  筑波大学大学院システム情報工学研究科

• 寺澤 恒男

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 田中 稔彦

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 須賀 治

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 村田 信治

  半導体MIRAIプロジェクト 産業技術総合研究所 次世代半導体研究センター

• 阿刀田 伸史

  ソルテック

• 岡崎 信次

  (株)日立製作所中央研究所

• 森上 光章

  ソルテック

• 老泉 博昭

  ソルテック

• 内野 正市

  日立製作所中央研究所

• 小川 太郎

  日立製作所中央研究所

• 曽我 隆

  日立製作所中央研究所

• 山中 良子

  日立製作所 中央研究所

• 服部 孝司

  日立製作所 中央研究所

• 浅井 尚子

  (株)日立製作所半導体開発センタ

• 曽我 隆

  (株)日立製作所半導体事業本部

• 早野 勝也

  (株)日立製作所中央研究所

• 今井 彰

  日立製作所中央研究所

• 寺澤 恒男

  日立製作所中央研究所

• 早野 勝也

  日立製作所中央研究所

• 大木 由美子

  日立製作所中央研究所

• 小川 太郎

  (株)日立製作所 中央研究所

• 岡崎 信次

  (株)日立製作所 中央研究所

• 岡崎 信次

  株式会社日立製作所 中央研究所

• 岡崎 信次

  (株)日立製作所

• 峰 利之

  日立製作所中央研究所

• 浅井 尚子

  (株)日立製作所デバイス開発センタ

• 浅井 尚子

  (株)日立製作所 中央研究所

• 坂無 英徳

  産業技術総合研 情報技術研究部門

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著作論文

• 化学増幅型レジストに及ぼす窒化シリコン膜表面水酸基の影響
• Influential領域を導入した適応型光近接効果補正技術の提案
• レイアウト設計後の最適化による光近接効果補正技術の提案
• 現像工程で発生するレジストパターン倒れの原因とその対策
• 5. 大容量データストレージ技術 道しるべ (大規模データ処理を支えるエレクトロニクス : マルチメディア世界の到来に向けて)
• 最も微細なパタ-ンを形成できるフォトレジストは?
• ギガスケールメモリ対応リソグラフィ技術の展望
• ハーフトーン位相シフトリソグラフィ技術
• ハーフトーン位相シフトリソグラフィ技術
• Influential領域を導入した適応型光近接効果補正技術の提案(セッション1)
• Influential領域を導入した適応型光近接効果補正技術の提案(セッション1)
• 0.15μm以降のリソグラフィ技術

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