村川 正宏 | 半導体MIRAIプロジェクト,産業技術総合研究所次世代半導体研究センター

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概要

• 同名の論文著者
• 半導体MIRAIプロジェクト,産業技術総合研究所次世代半導体研究センターの論文著者

関連著者

• 村川 正宏

  半導体MIRAIプロジェクト,産業技術総合研究所次世代半導体研究センター

• 樋口 哲也

  産業技術総合研究所

• 村川 正宏

  独立行政法人産業技術総合研究所半導体miraiプロジェクト

• 樋口 哲也

  独立行政法人産業技術総合研究所半導体miraiプロジェクト

• 樋口 哲也

  半導体MIRAIプロジェクト,産業技術総合研究所次世代半導体研究センター

• 樋口 哲也

  産業技術総合研究所 情報技術研究部門

• 高橋 栄一

  産業技術総合研究所情報技術研究部門

• 高橋 栄一

  半導体MIRAIプロジェクト,産業技術総合研究所次世代半導体研究センター

• 樋口 哲也

  産業技術総合研究所 次世代半導体研究センター

• 高橋 栄一

  独立行政法人産業技術総合研究所情報技術研究部門

• 坂無 英徳

  産業技術総合研究所

• 坂無 英徳

  半導体MIRAIプロジェクト 産業技術総合研究所 次世代半導体研究センター

• 坂無 英徳

  独立行政法人産業技術総合研究所

• 松縄 哲明

  筑波大学大学院システム情報工学研究科

• 野里 博和

  半導体MIRAIプロジェクト 産業技術総合研究所 次世代半導体研究センター

• 野里 博和

  独立行政法人産業技術総合研究所

• 松縄 哲明

  筑波大学大学院 システム情報工学研究科

• 高橋 栄一

  産業技術総合研究所

• 田中 稔彦

  (株)日立製作所中央研究所

• 田中 稔彦

  半導体miraiプロジェクト 技術研究組合 超先端電子技術開発機構

• 古谷 立美

  東邦大学大学院理学研究科

• 諏佐 達也

  東邦大学大学院理学研究科

• 樋口 哲也

  筑波大学大学院システム情報工学研究科

• 寺澤 恒男

  半導体MIRAIプロジェクト 技術研究組合 超先端電子技術開発機構

• 須賀 治

  (株)半導体先端テクノロジーズ

• 古谷 立美

  東邦大学

• 寺澤 恒男

  (株)半導体先端テクノロジーズ

• 田中 稔彦

  (株)半導体先端テクノロジーズ

• 小田 嘉則

  株式会社半導体先端テクノロジーズ(selete):(現)松下電器産業株式会社

• 三浦 道子

  広島大学大学院先端物質科学研究科,HiSIM研究センター

• 村川 正宏

  産業技術総合研究所

• 西 謙二

  近畿大学工業高等専門学校

• 和田 淳

  三洋電機株式会社

• 西 謙二

  株式会社半導体先端テクノロジーズ, 基盤技術研究部

• 西 謙二

  (株)半導体先端テクノロジーズ第二研究部

• 西 謙二

  近畿大学高等専門学校総合システム工学科電気電子系:(現)筑波大学大学院

• 西 謙二

  株式会社半導体先端テクノロジーズ(selete):(現)近畿大学工業高等専門学校

• 古市 愼治

  三洋電機株式会社

• 上田 佳孝

  三洋電機株式会社

• 村田 信治

  東邦大学大学院理学研究科情報科学専攻

• 飯島 洋祐

  筑波大学大学院システム情報工学研究科

• 村田 信治

  半導体MIRAIプロジェクト 産業技術総合研究所 次世代半導体研究センター

• 河西 勇二

  産業技術総合研究所

• 小田 嘉則

  株式会社半導体先端テクノロジーズ(selete)

• 河西 勇二

  半導体MIRAIプロジェクト,産業技術総合研究所次世代半導体研究センター

• 古谷 立美

  東邦大学 理学部

• 和田 哲典

  (株)半導体先端テクノロジーズ

• 三浦 道子

  広島大学大学院先端物質科学研究科

• 古谷 立美

  東邦大学大学院理学研究科情報科学専攻

• 和田 哲典

  半導体先端テクノロジーズ

• 飯島 洋祐

  半導体MIRAIプロジェクト,産業技術総合研究所 次世代半導体研究センター

• 小田 嘉則

  半導体先端テクノロジーズ(Selete)

• 馬場 俊祐

  半導体先端テクノロジーズ (Selete)

• 三村 周

  半導体MIRAI-産総研ASRC

• 飯島 洋祐

  筑波大学

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著作論文

• ディジタルLSIの製造後クロック調整技術の高速化手法
• レイアウト設計後の最適化による光近接効果補正技術の提案
• パラメータの微分可能性を考慮した遺伝的アルゴリズムによる物理モデルの自動合わせ込み
• Influential領域を導入した適応型光近接効果補正技術の提案(セッション1)
• Influential領域を導入した適応型光近接効果補正技術の提案(セッション1)
• 適応型光近接効果補正技術の領域分割による高速化手法の提案と検証(セッション4)
• 進化型ハードウェア技術のマイクロ波回路への適用(≤特集≥進化的計算)
• タイミング余裕を確保したディジタルLSIの製造後クロック調整(セッション7)
• C-024 ディジタルLSIの製造後クロック調整におけるタイミング余裕度の検証(C.アーキテクチャ・ハードウェア)
• 遺伝的アルゴリズムのテクノロジーCADへの応用
• A-1-28 表面ポテンシャルMOSFETモデルの遺伝的アルゴリズムを用いた自動合わせ込み技術(A-1. 回路とシステム, 基礎・境界)

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