リニア型高速熱処理法による薄膜配向性の制御
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概要
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本研究では, 一軸配向性Ta_2O_5薄膜の結晶性向上を目的とし, 新しいリニア型高速熱処理法を提案した. その結果, 等方性の石英ガラス基板上において, 面内に高い配向性をもったTa_2O_5薄膜を作製できた. またX-Cut・LiTaO_3基板を用いた場合, 格子整合のとれた単結晶薄膜を得ることができた. これによりRHEEDパターンからX-Cut・LiTaO_3基板上のTa_2O_5薄膜の構造を決定した.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1999-07-09
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