弾性表面波による光弾性強調現象
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概要
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本研究では弾性表面波を用いた薄膜の光弾性強調現象について検討を行った.高周波スパッタリング法による光薄膜導波路の作製時に, 弾性表面波をあらかじめ励起させながら作成すると薄膜の光弾性定数が約6〜7倍に大きくなることを示す.今回は, 酸化物中でもっとも安定な物質である五酸化タンタル(Ta_2O_5)を薄膜導波路とするTa_2O_5/SiO_2/128゜Y_XLiNbO_3構造を用いて, 光音響偏向素子を作製したところ, 弾性表面波による光弾性強調現象を確認し, さらにTMモードにおいても低パワー駆動可能な光偏向素子を実現した.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1998-05-22
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