各種成膜法により作製したY_2O_3 : Mn蛍光体薄膜のPL及びEL特性
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概要
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ゾル-ゲル法、PLD法及び高周波マグネトロンスパッタリング法により作製したY_2O_3 : Mn薄膜EL素子のPLおよびEL特性について検討した。いずれの成膜法においても形成された膜の結晶構造が立方晶の場合は、PL及びELが得られなかった。一方、形成された膜の結晶構造が単斜晶を含む場合は、PL及びELにおいて高輝度黄色発光を実現できた。Y_2O_3 : Mn薄膜EL素子では、その発光特性が母体の結晶構造に強く依存し、立方晶系の成長を抑えて単斜晶系に主として結晶化させた膜を作製することによって、高輝度発光を実現できることが分かった。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2002-01-17
著者
-
山崎 正志
O.e. デバイスシステムr&dセンター、金沢工業大学
-
小林 洋平
金沢工業大学o.e. デバイスシステムr&dセンター
-
白井 徹也
O.E.デバイスシステムR&Dセンター
-
宮田 俊弘
O.E.デバイスシステムR&Dセンター
-
南 内嗣
O.E.デバイスシステムR&Dセンター
-
南 内嗣
金沢工業大学 光電相互変換デバイスシステム研究開発センター
-
宮田 俊弘
金沢工業大学 光電相互変換デバイスシステム研究開発センター
-
山崎 正志
O.E.デバイスシステムR&Dセンター、金沢工業大学
-
小林 洋平
O.E.デバイスシステムR&Dセンター、金沢工業大学
-
白井 徹也
O.e. デバイスシステムr&dセンター、金沢工業大学
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