各種成膜法により作製した高輝度Zn(Ga_1-xAl_x)_2O_4 : Mn酸化物薄膜EL素子
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概要
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パルスレーザー蒸着(PLD)法及び高周波マグネトロンスパッタリング法により作製したZn(Ga_1-xAl_x)_2O_4:Mn蛍光体薄膜を発光層に用いる薄膜EL素子において高輝度緑色発光を実現した。特に、PLD法により作製したZn(Ga_1-xAl_x)_2O_4:Mn薄膜EL素子は1kHz正弦波交流電圧駆動時において1000cd/m^2以上の高輝度を実現した。
- 2002-11-14
著者
-
宮田 俊弘
金沢工業大学光電相互変換デバイスシステム研究開発センター
-
南 内嗣
金沢工業大学光電相互変換デバイスシステム研究開発センター
-
山崎 正志
O.e. デバイスシステムr&dセンター、金沢工業大学
-
南 内嗣
金沢工業大学 光電相互変換デバイスシステム研究開発センター
-
宮田 俊弘
金沢工業大学 光電相互変換デバイスシステム研究開発センター
-
山崎 正志
金沢工業大学O.E.デバイスシステムR&Dセンター
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