APCVD法を用いた低複屈折石英導波路FDM/WDMカプラ
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概要
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波長多重光通信システムにとって光の波長を選択するFDM/WDMカプラは必須デバイスである。特に、シリコン基坂上に形成した石英導波路デバイスはシリコン上にV溝を形成したファイバ実装が可能であるためにモジュールの低コスト化に有効である。しかし、FHD法等による成膜プロセスの場合、導波路の複屈折性が大きいために狭帯域のフィルタを作製する場合に偏光依存性の調整が必要であった。今回、シリコン基坂上に常圧化学気相堆法(APCVD法)により成膜した低損失かつ低複屈折の石英導波路を用いて波長問隔100GHzのマッハツェンダ(MZ)型FDMカプラ(1.55μm帯)及び方向性結合器(DC)型1.3/1.55μm帯WDMカプラを作製したので報告する。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1996-03-11
著者
-
中村 真一
Nec山梨デバイス統括部
-
北村 光弘
NEC光エレクトロニクス研究所
-
花田 忠彦
Fiber Optic Devices Division, NEC Networks
-
北村 光弘
Nec
-
花田 忠彦
NEC光エレクトロニクス研究所
-
中村 真一
NEC第二伝送通信事業部
-
花田 忠彦
Fiber Optic Devices Division Nec Networks
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