レーザーオリジナル Increasing the Refractive Index of a Germanosilicate Planar Waveguide by lrradiation with an Infrared U1trashort Pulse Laser (「フェムト秒レーザーによる無機材料の微細加工」解説小特集号)
スポンサーリンク
概要
著者
-
賣野 豊
NECネットワークス光デバイス事業部
-
平尾 一之
Faculty Of Engineering Kyoto University
-
古宇田 光
日本電気株式会社ナノエレクトロニクス研究所
-
古宇田 光
Functional Materials Research Laboratories, NEC
-
賣野 豊
Fiber Optic Devices Division, NEC Networks
-
花田 忠彦
Fiber Optic Devices Division, NEC Networks
-
花田 忠彦
Fiber Optic Devices Division Nec Networks
-
古宇田 光
Necナノエレクトロニクス研究所
関連論文
- セラミックス材料のTHz周波数帯域での特性
- THzテクノロジーに用いる透過分光光学材料 (特集 機能性セラミックス--光学・エネルギー分野のトレンドを追う) -- (光学分野の動向)
- C-3-106 低消費電力 VOA アレイ
- 相分離を伴うゾル-ゲル法によるイオン性前駆体からのマクロポーラスYAGの作製(水溶液科学に立脚したセラミックス合成プロセス)
- 有機-無機ハイブリッド多孔体による光散乱制御
- 632 ランダムフォトニックナノ構造における希土類イオンの空間選択的価数制御(ナノマテリアルの特性,ナノマテリアル最前線,オーガナイスドセッション11,第53期学術講演会)
- フェムト秒レーザープロッセッシングによる3次元ナノ構造体の創製(ナノ技術を応用した機能性接合)
- レーザーによるガラスの内部構造改質 (特集 レーザ加工を科学する)
- ナノ構造制御・ナノ加工技術による新機能性ガラスの開発と未来
- 1秒でガラス内部にナノ周期構造「光の指紋」作製
- 1K16 電子線によるガラス構造のナノモディフィケーション (I) : Ge ドープシリカガラスの場合
- フェムト秒光パルスによるガラス加工
- 1Cp14 フェムト秒レーザーを用いたGABA高生産酵母の育種(代謝工学・メタボローム,一般講演)
- Eu-Ti-O系アモルファス薄膜の磁気光学特性
- PLD法によるEuTiO_3エピタキシャル薄膜の作製と磁気および誘電的性質
- 蛍光ガラス線量計用銀活性リン酸塩ガラスのラジオフォトルミネッセンス
- Siダブルスリットを有する高信頼LiNbO_3光変調器
- FeTiO_3-Fe_2O_3固溶体薄膜における秩序構造および逆位相境界の直接観察
- ガラスはナノテクの宝庫
- レーザー照射によるガラス内部からの半導体(Si)析出とその制御 (特集 ナノテクノロジーが生み出す新ガラス材料技術(1))
- レーザー誘起圧力波の観察から見るフェムト秒レーザー加工の特長 (特集 期待されるフェムト秒レーザー研究)
- フェムト秒レーザによる希土類ドープ材料のナノアーキテクチャー
- Tiを添加したペロブスカイト型酸化物BaZrO_3の青色長残光特性
- ニューガラス関連学会 「ガラスの新しい機能性に関する冬季日米合同学校」見聞記
- 3-mercaptopropyltrimethoxysilaneを用いた液相法によるナノオーダーの厚みをもつ平板状金マイクロ粒子の合成(水溶液科学に立脚したセラミックス合成プロセス)
- 産学連携イノベーション
- C-3-98 高◺石英光導波路用指数関数型スポットサイズコンバータ
- 石英系偏光無依存40CHアレイ導波路格子
- 偏光無依存AWGモジュール
- C-3-115 偏光無依存石英系アレイ導波路格子
- グレーティングを形成した方向性結合器型石英光ADM
- フェムト秒レーザーを用いた透明媒質内部加工における変形過程とエネルギー散逸過程の観測法
- フェムト秒レーザーでいま何ができるのか?--ナノレベルの超微細加工における最新研究
- フェムト秒レーザー加工によるフォトニクス材料の創製 (特集/新しい化学技術の挑戦と未来)
- 605 ZnFe_2O_4ナノ結晶薄膜における磁気特性及び磁気光学効果(ナノコンポジットII,ナノコンポジット,オーガナイスドセッション7)
- 15Nb_2O_5・85TeO_2ガラスへの光誘起2次非線形光学特性付与に及ぼすVとTbの共ドーピング効果(周期空間と相互作用する新しいセラミックスのマテリアルデザインとプロセッシング)
- 621 イルメナイト・ヘマタイト固溶体に基づくフェリ磁性半導体薄膜の作製(ナノ材料の特性評価III, 最先端のナノマテリアル)
- C-3-49 20Gbps/ch光モジュールを用いたLSI間信号伝送(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- C-3-74 超高密度光モジュールを用いたLSI間光電気信号伝送(アクティブモジュール,C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
- C-3-22 マルチモードポリマー光導波路アレイにおける信号伝播特性(導波路デバイス(2),C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
- 626 フェムト秒レーザーを用いたナノ細線(20nm)の描画(ナノマテリアルの創成,ナノマテリアル最前線,オーガナイスドセッション11,第53期学術講演会)
- フェムト秒レーザーによる透明材料内部への3次元超微細加工--シングルビームによるナノグレーティング形成
- レーザーオリジナル Increasing the Refractive Index of a Germanosilicate Planar Waveguide by lrradiation with an Infrared U1trashort Pulse Laser (「フェムト秒レーザーによる無機材料の微細加工」解説小特集号)
- 超短パルスレーザーによる高集積化用基板材料のアブレーション加工
- 超短パルスレーザーによるクロムフォトマスクの修正
- 無電解銅めっき用Agナノ粒子触媒の高分散吸着と触媒活性
- 銀ナノ粒子触媒の触媒活性評価
- "割れないガラス"を作るナノテクノロジー
- Siダブルスリットを有する高信頼LiNbO_3光変調器
- Siダブルスリットを有する高信頼LiNbO_3光変調器
- Siダブルスリットを有する高信頼LiNbO_3光変調器
- フェムト秒レーザーによるLiTaO_3基板上の導波路形成と評価
- APCVD法を用いた低複屈折石英導波路FDM/WDMカプラ
- TEOS-O_3系常圧CVDによる石英系光導波路の低温形成
- ナノテク開発最前線 炭素が拓くナノテクの世界--大阪ガス 西野仁氏
- 石英系光導波路における紫外光誘起屈折率変化
- 1921 多チャンネル光インターフェースが高密度実装されたLSI基板の液冷モジュール(J16-3 電子情報機器,電子デバイスの熱制御と強度・信頼性評価(3),J16 電子情報機器,電子デバイスの熱制御と強度・信頼性評価)
- 石英導波路型8×1光モードコンバイナ
- 総論:ナノガラスが拓く未来技術 (特集 ナノガラスプロジェクトの成果と展望)
- 進化するガラス
- 半導体ナノ粒子と蛍光体への応用
- ナノプロジェクト研究最前線 超短パルスレーザを用いた三次元光機能素子の作製
- ナノガラスシンポジウムに向けて (特集2 第20回国際ガラス会議)
- C-3-45 映像伝送用光モジュールの開発(アクティブモジュール,C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
- C-3-127 集光ミラー内蔵VCSEL搭載基板の開発(C-3. 光エレクトロニクス, エレクトロニクス1)
- C-3-64 チップ間光インターコネクション用集光ミラーの開発(光モジュール)(C-3.光エレクトロニクス)
- C-3-101 集光型マイクロミラーの開発
- 蛍光ガラス線量計用銀活性リン酸塩ガラスのラジオフォトルミネッセンス
- 超高速コンピュータ用チップ間光インターコネクション技術の開発(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- 超高速コンピュータ用チップ間光インターコネクション技術の開発(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- 超高速コンピュータ用チップ間光インターコネクション技術の開発(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- 超高速コンピュータ用チップ間光インターコネクション技術の開発(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- モジュール技術 光導波路型WDM信号パワーレベルモニタ (実装技術特集)
- Optical Properties of a Waveguide Written Inside a LiTaO_3 Crystal by Irradiation with Focused Femtosecond Laser Pulses