溶液中でシリカゲル及びオクタデシルシリル-シリカに吸着されたアミンのC-13NMRによる研究
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概要
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水及び有機溶媒中で,シリカゲル及びオクタデシルシリル(ODS)-シリカに吸着されたアミンの<13>^C-NMRスペクトルを測定した.水溶液中でシリカゲルに吸着されたt-ブチルアミンの<13>^C-NMRスペクトルでは,メチル基炭素及び4級炭素が吸着状態と溶液中のピークに分離した.これらのピークの<13>^C化学シフトから,t-ブチルアミンは表面シラノール基とのプロトネーションかそれに近い状態で吸着されていることが分かった.二つの状態のピーク強度や化学シフトの変化などについて,シリカゲルの前処理の違い,溶媒による違い及び塩を加えたときの違いを検討した.ベンジルアミンもメタノール中での同様な測定では,ベンゼン環4級炭素が二つの状態のピークに分離した.又,ODS-シリカ存在下メタノール中でのアミンの<13>^ C-NMRスペクトルは,ODS-シリカを加えない溶旅中での化学シフトとほとんど一致し,ピークもシャープであった.
- 社団法人日本分析化学会の論文
- 1981-04-05
著者
-
渡辺 訓行
東京大学大学院工学系研究科応用化学専攻
-
高杉 政彦
東京大学工学部工業化学科
-
仁木 栄次
東京大学工学部工業化学科
-
大関 博
旭化成工業(株)技術研究所
-
大関 博
日本分析化学会高分子分析研究懇談会SEC専門部会
-
仁木 栄次
東京大学工学部工業化学科:(現)職業訓練大学校
-
仁木 栄次
東京大学工学部
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