SiC/C傾斜機能材料の設計とCVD法による合成
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
It has been tried to design and prepare Si C/ C Functionally Gradient Material ( FGM) accompanying compositional gradient from SiC to C, for developing thermal-barrier materials for space plane. Thermal stresses in SiC monolith and SiC/ C-FGM were calculated, based on one-dimensional linear analysis for a cylindrical model in infinite length, using Young's moduli, thermal expansion coefficients, thermal conductivities, densities. Poisson's ratios and fracture strength of SiC and C. It was found that that the thermal stress in SiC/ C . FGM was considerably smaller than that of SiC monolith. According to the graded concentration predicted from the calculation, the possibility of preparation of SiC/ C . FGM by C VD was investigated under the CVD conditions ; a SiCl_4- C_3H_8-H_2 system, a deposition temperature of 1773 K, total gas pressure of 6.7 kPa. A plate ( thickness of 1 mm) having a compositional gradient from SiC to C was obtained on a graphite substrate by changing Si/ C ratio in gas phase during deposition. Many pores were observed in the region of 40-60 mol% C.
- 社団法人日本セラミックス協会の論文
- 1989-05-01
著者
-
平野 徹
ダイキン工業(株)
-
平井 敏雄
東北大学金属材料研究所
-
佐々木 眞
室蘭工業大学工学部材料物性工学科
-
平野 徹
ダイキン工業(株)電子技術研究所
-
佐々木 眞
東北大学金属材料研究所
-
王 雨叢
東北大学金属材料研究所
-
平野 徹
ダイキン工業 株式会社
関連論文
- モーダルアナリシスと有限要素法を併用した部分構造動歪解析
- 誘導コイル結合型スパッタリングによるYBa_2Cu_3O_y薄膜の作製
- 1K06 SPS による酸化物共晶セラミックス粉の焼結と高温強度
- B_4Cに鉄をドープした熱電素子の研究
- 温度傾斜プラズマ焼結(SPS)法による傾斜化プロセス
- アーク溶融法を用いて作製したAl_2O_3/Y_3Al_5O_(YAG)共晶複合材料の組織とその高温安定性
- SPS法によるチタニウム/ハイドロキシアパタイト系傾斜機能材料の作製
- 生体応用に向けた傾斜機能材料の作製と特性
- 傾斜機能材料
- 二段階固相反応法によるBa_yFe_xCo_Sb_の合成および電気的性質
- 3F06 共晶セラミックスの放電プラズマシステム (SPS) による合成とその機構
- Y_yFe_XCo_Sb_の熱電性能に及ぼすY充填量の影響
- 放電プラズマ焼結(SPS)法によるZrO_2(3Y)+20wt%Al_2O_3/SUS410L系複合傾斜機能材料の合成とトライボロジー特性
- WC系傾斜機能材料の作製
- ライナ付FRP圧力容器の構造設計および解析
- 欠陥ペロブスカイトLaTa_3O_9の交流電気伝導と輸率測定
- B_4C-B_P_2共晶系セラミッ, ク焼結体のゼーベック係数
- 酸素0.1MPa,1273KにおけるSrO-CaO-CuO系固溶相の合成と導電率
- Sr_Ca_CuO_2の合成と結晶構造
- β-ジケトン金属錯体を原料に用いたCVD法によるZrO_2-Y_2O_3系酸化物薄膜の合成
- H_2-CO_2 を酸化ガスに用いた CVD 法による ZrO_2 膜の作製
- Pb_Sn_xTeの電気伝導率および熱伝導率に及ぼす組成の影響
- 傾斜機能材料の設計--力学的特性と熱的特性 (傾斜機能材料--創製のいま)
- 化学気相析出SiCの圧痕周辺の微細組織の透過型電子顕微鏡による研究(セラミックスの微細構造)
- ヘリコンスパッタ法により作製したTiO_2/SiO_2多層膜の微細構造および光学特性
- 屈折率傾斜SiO_2-TiO_2薄膜の光学特性
- ダイキン工業(株)電子技術研究所
- 要素生成/アダプティブ,プリ・ポスト,並列処理(計算力学国際会議ICES'92印象記,学術会合報告)
- 計算力学国際会議ICES'92印象記
- CVD法によるTiC-SiC系傾斜機能材料の作製
- 逆問題解析手法を用いた多相混合系におけるミクロ組織の推定
- 知識工学的手法と数理計画法を組合せた逆問題解析手法について
- SiC/C傾斜機能材料の設計とCVD法による合成
- 電力分野における画像処理技術の応用(その2) : 画像合成システムの開発
- 電力分野における画像処理技術の応用(その1) : 鉄塔モデラーの開発
- 機械の CAE におけるコンピュータグラフィックス (コンピュータグラフィックス)
- 気相分解黒鉛-臭素残存化合物の熱膨張
- 気相分解黒鉛の生成および構造性に及ぼす気相かくはんの影響
- 気相分解黒鉛の生成および構造性に及ぼす原料ガス圧力の影響
- サファイア(012)面基板上c軸配向Ba_2NaNb_5O_薄膜の作製と諸性質
- ECRプラズマスパッタ法によるBa_2NaNb_5O_膜の作製と諸性質
- 電子サイクロトロン共鳴プラズマスパッター法で作製されたc軸配向 Ba_2NaNb_5O_膜の光学特性
- 機械のCAEにおけるシミュレ-ション技術 (「CAE/CAD/CAM」)
- 傾斜機能材料の物理・化学 -文部省科学研究費補助金重点領域研究の展開を中心にして-
- 含窒素有機ケイ素化合物を用いたCVD法による窒化ケイ素微粉末の合成(2. 気相反応法)(新技術によるセラミックスの合成と評価(I))
- 化学気相析出法で合成したSi_3N_4の熱膨張特性
- アーク溶解および熱処理により作製したSiB_-SiB_6系複合セラミックスの熱電性能
- アーク溶解法により作製したB_4C-SiB_n-Si系複合セラミックスの微細組織と熱電特性
- 光交流法によるゼーベック係数の迅速測定
- アーク溶解法によるB_4C-TiB_2系複合セラミックスの作製とその熱電性能
- アーク溶解法で作製したケイ化ホウ素セラミックスの微細組織と熱電特性
- アーク溶解法によるB-C系固溶体の作製とその熱電性能
- TiC-Ni_3Al系複合材料の緻密化とその熱的性質
- アーク溶解法によるW-B-C系複合セラミックスの作製とその熱電性能
- ガラス被覆したPbTeの耐酸化性に及ぼすガラス組成の影響
- 2G05 Nd_Si_XAlO_3 の相変態とその利用
- 放電プラズマシステム (SPS)
- 希土類アルミネート(RE_4Al_2O_9)の合成,結晶構造と相転移
- 化学気相析出/超高圧ハイブリッドプロセスによるBN基超硬質ナノ・コンポジットの創製
- 斜交対称積層板の破損挙動に及ぼす積層順序および繊維配向角の影響
- 白金およびイリジウムを被覆した耐熱合金の臭素-酸素雰囲気での高温腐食
- ステンレス鋼,インコネルおよびインコロイ合金の臭素を含む雰囲気での高温腐食
- MOCVD法により合成したアモルファス炭素/ナノグラニュラーイリジウム膜の電気化学的性質
- マイクロ波プラズマ CVD 法を用いた Al-C-O-N 膜の合成
- ガラス被覆したPbTeの高温酸化
- CVD法により合成されたYBCO膜の抵抗率温度依存性
- 固相反応法により合成したCe_yFe_xCo_Sb_の熱電特性
- 傾斜機能材料の作製と諸性質 : 複合材料
- CDV in-situ複合セラミックス : 複合化から複素化へ(粉体小特集)
- ECRプラズマスパッタリング法によるチタン酸ビスマス膜の作製と光学特性
- 傾斜機能材料―宇宙機用超耐熱材料を目指して
- MOCVDにより合成したIr-Cコンポジット膜の微細構造と電気的性質
- 材料設計におけるファジィ理論の応用
- 傾斜機能材料の設計
- 化学気相析出法によるTiC/C系傾斜機能材料の合成
- CVD・TiC-C複合材料の組織と空隙分布
- BaO-MgO-Al_2O_3におけるBaβ-アルミナの作製とその電気的性質測定
- Sr β-アルミナイオン伝導体の作製とそのa.c.インピーダンス測定
- CVD法によるサファイア基板上へのBi4Ti3O12エピタキシャル膜の合成
- 酸化鉛とチタニウムテトライソプロポキシドを原料としたCVD法によるPbTiO_3の合成
- 化学気相析出による炭化ケイ素の合成
- CVDセラミック膜の微細構造制御
- アーク溶解法によるB-C-Si系複合セラミックスの作製とその熱電性能
- アーク溶解法によるSiC-B_4C共晶セラミックスの硬さと微細組織
- アルミナ焼結体の強化(セラミックスの微細構造)
- MOCVD法によるYBCO系超伝導膜のナノ・コンポジット化に関する研究
- CVD法により合成されたTiO_2-SnO_2系の析出物
- 炭酸基を含む新しい酸化物超伝導体
- CVD法により作製されたアナターゼ型 TiO_2-SnO_2 固溶体の結晶構造
- Al_2O_3-Sic複合材料の微細構造と機械的性質(セラミックスの微細構造)
- CVD・TiC-C複合材料の合成と熱的性質
- Bi-Sr-Ca-Cu-O系超伝導膜の生成とCVD条件
- 温度差プラズマ焼結法によるZrO2(3Y)/SUS(410)傾斜機能材料の合成
- CVD 法によるチタン酸バリウム薄膜の合成
- SiC Y_4Al_2O_9系複合材料の合成
- ポリフェニルシランからのSiC-炭素ナノコンポジットの合成
- CVD法により合成したSiC-TiC in-situ複合セラミックスの微細組織 (射出成形・ダイヤモンドおよびcBN薄膜・希土類・セラミックス複合材料) -- (セラミックス複合材料)
- Si-B系セラミックスの相図と熱電特性 (高次制御材料-2-)
- ハイブリッド化セラミックス材料 (ハイブリッド材料)
- Al2O3/Si3N4ナノコンポジット (脆性材料の評価)