ArFエキシマレーザによる水晶ウエハの化学的アブレーション加工 : 高精度発振周波数制御の可能性の検討
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概要
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Demand for the high frequency quartz oscillator is significantly increasing. In order to generate 100 MHz band frequency directly, the thickness of quartz must be thinner than 17 μm and the thickness accuracy must be smaller than nanometer. This paper deals with the chemical ablatien of the quartz crystal wafer with an ArF excimer laser in CF_2Br_2 gas. Effects of the reactive gas pressure, beam energy fluence etc. on the surface features, roughness and removal rate were investigated experimentally. It was shown that oscillating frequency of the quartz wafer will be able to control by ArF laser chemical ablation.
- 公益社団法人精密工学会の論文
- 2000-06-05
著者
-
柴田 隆行
北海道大学大学院工学研究科
-
池田 正幸
北海道大学工学研究科
-
高橋 義美
北海道大学工学部
-
高橋 義美
北海道大学大学院工学研究科
-
池田 正幸
北大
-
新輪 隆
セイコーインスツルメンツ(株)
-
千葉 亜紀雄
日本電波工業(株)
-
池田 正幸
北海道大学
-
新輪 隆
セイコーインスツル(株)高塚事業所技術本部研究開発センター新領域開発部
-
高橋 義実
北海道大学工学研究科
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