NO_2およびO_3吸着による水素終端ダイヤモンド表面の正孔ドーピング
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概要
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- 2012-10-10
著者
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佐藤 寿志
日本電信電話株式会社NTT物性基礎研究所
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嘉数 誠
日本電信電話株式会社ntt物性科学基礎研究所
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嘉数 誠
佐賀大学グリーンエレクトロニクス研究所大学院工学系研究科
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KUBOVIC Michal
日本電信電話株式会社NTT物性科学基礎研究所
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嘉数 誠
佐賀大学グリーンエレクトロニクス研究所
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