佐藤 寿志 | 日本電信電話株式会社NTT物性基礎研究所
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概要
関連著者
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佐藤 寿志
日本電信電話株式会社NTT物性基礎研究所
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内藤 方夫
農工大
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内藤 方夫
Ntt物性科学基礎研究所:(現)東京農工大学工学部
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NTT物性科学基礎研究所
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Nttドコモ 先進技研
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日本電信電話株式会社ntt物性科学基礎研究所
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嘉数 誠
佐賀大学グリーンエレクトロニクス研究所大学院工学系研究科
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日本電信電話株式会社NTT物性科学基礎研究所
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嘉数 誠
佐賀大学グリーンエレクトロニクス研究所
著作論文
- C-2-127 高温超伝導体NdBa_2Cu_3O_7のMBE薄膜を用いたバンドパスフィルタ(C-2.マイクロ波B(受動デバイス))
- C-2-42 高温超伝導薄膜マイクロストリップフィルタにおける共振器形状および薄膜品質の相互変調特性への影響
- NdBa_2Cu_3O_7薄膜を用いた超伝導フィルタの第3次歪み特性
- NO_2およびO_3吸着による水素終端ダイヤモンド表面の正孔ドーピング