内藤 方夫 | Ntt物性科学基礎研究所:(現)東京農工大学工学部
スポンサーリンク
概要
関連著者
-
内藤 方夫
Ntt物性科学基礎研究所:(現)東京農工大学工学部
-
佐藤 寿志
NTT物性科学基礎研究所
-
佐藤 寿志
Ntt物性基礎研
-
内藤 方夫
農工大
-
内藤 方夫
Ntt物性基礎研
-
KURIAN Jose
NTT物性科学基礎研究所
-
Kurian Jose
日本電信電話株式会社NTT物性基礎研究所
-
KURIAN Jose
NTT Network Innovation Laboratories
-
Kurian J
Regional Res. Lab.(csir) Trivandrum Ind
-
Kurian J
Ntt物性科学基礎研究所
-
内藤 方夫
NTT基礎研
-
佐藤 寿志
日本電信電話株式会社NTT物性基礎研究所
-
内藤 方夫
日本電信電話株式会社NTT物性基礎研究所
-
佐藤 寿志
NTT基礎研
-
三浦 登
東大物性研
-
三浦 登
理研
-
有馬 孝尚
東大理
-
十倉 好紀
東大理
-
関谷 毅
東大物性研
-
長 敬三
日本電信電話株式会社NTT未来ねっと研究所
-
長 敬三
NTT未来ねっと研究所
-
木下 聡
東海大理
-
内藤 方夫
NTT 基礎研究所
-
佐藤 寿志
NTT 基礎研究所
-
三浦 登
東京大学物性研究所
-
Miura N
Institute For Solid State Physics University Of Tokyo
-
Miura Noboru
Instilute For Solid State Physics University Of Tokyo
-
長 敬三
株式会社nttドコモ先進技術研究所
-
長 敬三
Nttドコモ 先進技研
著作論文
- 高温超伝導薄膜フィルタの相互変調測定(マイクロ波超電導/一般)
- C-2-127 高温超伝導体NdBa_2Cu_3O_7のMBE薄膜を用いたバンドパスフィルタ(C-2.マイクロ波B(受動デバイス))
- 高温超伝導薄膜マイクロストリップフィルタにおける共振器形状および薄膜品質の相互変調特性への影響
- C-2-42 高温超伝導薄膜マイクロストリップフィルタにおける共振器形状および薄膜品質の相互変調特性への影響
- 27pJ-8 La_Sr_xCuO_4のc軸及び非c軸配向薄膜での抵抗率の膜厚依存性
- 高温超伝導体での格子不整合歪みによる超伝導転移温度上昇 (特集論文 高温超伝導)
- 5a-YE-6 T型酸化物超伝導体のトンネル接合特性の異方性
- 15p-E-10 214型酸化物超伝導体薄膜の表面超構造
- 非 c 軸配向をもつ高温超伝導薄膜 - 214系での準ホモエピタキシャル成長 -
- 高温超伝導薄膜フィルタの相互変調測定(マイクロ波超電導/一般)
- 19aTE-1 歪みLa_Sr_XCuO_4薄膜の強磁場磁気輸送特性