高輝度放射光を用いた次世代 high-k ゲート絶縁膜の電子状態解析

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概要

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• 日本放射光学会の論文
• 2006-05-31

著者

• 尾嶋 正治

  東京大学大学院工学系研究科応用化学専攻

• 尾嶋 正治

  東京大学大学院工学系研究科

• 豊田 智史

  東京大学大学院工学系研究科

• 尾嶋 正治

  東大 大学院

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