共鳴核反応法で見るSiO_2/Si界面近傍の水素の挙動
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概要
著者
-
福谷 克之
東京大学生産技術研究所
-
藤枝 信次
日本電気株式会社デバイスプラットフォーム研究所
-
藤枝 信次
「応用物理」編集委員会
-
藤枝 信次
Ecシリコノシステム研究所
-
藤枝 信次
日本電気(株)システムデバイス研究所
-
藤枝 信次
日本電気株式会社システムデバイス研究所
-
劉 紫園
NECエレクトロニクス評価技術開発事業部
-
WILDE Marukus
東京大学生産技術研究所
-
Wilde Markus
東京大学生産技術研究所
-
劉 紫園
Necエレクトロニクス
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