22aHA-2 O_2, H_2吸着によるSrTiO_3:Nb表面の状態密度変化と電気伝導度抑制(22aHA 表面界面電子物性,領域9(表面・界面,結晶成長))

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概要

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• 2011-08-24

著者

• 福谷 克之

  東大生研

• 福谷 克之

  東京大学生産技術研究所

• 福谷 克之

  東大生産技術研

• 武安 光太郎

  東大生研

• 武安 光太郎

  東京大学生産技術研究所

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