アークイオンプレーティング法によるポリカーボネイト基板上へのTiNの低温成膜
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 1997-01-01
著者
-
伊藤 滋
東京理科大学理工学部工業化学科
-
伊藤 滋
東京理科大学理工学部
-
湯本 久美
東京理科大・基礎工
-
伊藤 滋
東京理科大学
-
明石 和夫
東京理科大学 理工学部
-
茂呂 義明
東京理科大学基礎工学部
-
湯本 久美
東京理科大学大学院
-
明石 和夫
東京理大 理工
-
湯本 久美
東京理科大学基礎工学部材料工学科
-
武田 利彦
東京理科大学 理工学部
-
茂呂 義明
東京理科大学 基礎工学部
-
武田 利彦
大日本印刷 研究開発セ
関連論文
- 溶液プロセスによるアルカリ金属を含むTiO_2系複合酸化物微粒子の低温作製
- 表面を酸化したアルミニウム粉を原料とした窒化アルミニウムの作製
- β-アルミナ型各種M^+-β-フェライト(M^+ : K^+, Rb^+, Cs^+, (Na^+, K^+), NH_4^+)の感湿特性(センサー・バリスター)(導電性セラミックス)
- Rb_2O-Fe_2O_3,Cs_2O-Fe_2O_3系におけるβ-,β''-及びβ'''-アルミナ型フェライトの生成とβ,β''相のイオン導電性
- ジメチルエーテルを直接燃料に用いた中温作動型SOFC用Feアノード触媒の開発
- ジメチルエーテルを直接燃料に用いた中温作動型SOFC用Fe-Niアノード触媒の開発
- 1C18 パルス化した高周波熱プラズマ照射による材料表面の変化
- 27aC8 グラファイト上のAg微結晶成長のSEM"その場"観察(気相成長II)
- Mo(110)表面上におけるAg微結晶の成長に伴う回転 : 気相成長IV
- Mo(110)表面上におけるAg双晶結晶の成長のSEMによる動的観察 : 気相成長IV
- 泳動電着法による酸化物超伝導磁気シールド体の作製
- SEM"その場" 観察によるグラファイト基板上の Ag 粒子の核形成と成長(「核形成と成長カイネティクス」)
- 22pB10 ITOひげ結晶のVLS成長機構(気相成長IV)
- VLS成長した金属微結晶の核生成 : 気相成長
- 電子シャワー法によるAIN薄膜の作製
- コロイドプロセスによる酸化マグネシウム微細粒ち密焼結体の作製
- HIP法によるSm_2Fe_N_3焼結体の作製およびその磁気特性
- HIP法による低温焼結現象を利用した各種機能性材料の作製 (特集 21世紀に開花するニューマテリアルとそのテクノロジーへの招待--東京理科大学における先端材料研究)
- HIP法によるSiO_2系非晶質-結晶質複合材料の作製(2)
- HIP法による組成傾斜Ba(Zr,Ti)O_3強誘電体の作製
- 解説 バルク状アルミニウムの直接窒化による窒化アルミニウムの作製 (窒化アルミニウム粉末合成と焼結体の高性能化)
- モード変換型マイクロ波プラズマMOCVD法による(111)配向ZrO_2膜の低温堆積
- 気相成長Cd結晶のモルフォロジーと成長機構に対する不純物Biの影響(結晶のモルフォロジー)
- 3E11 高周波熱プラズマ法による配向性アパタイト膜の作製
- 高周波誘導熱プラズマ法によるジルコニア基板への水酸アパタイトのコーティング
- 1F10 水酸アパタイトの高周波熱プラズマ法によるジルコニアへのコーティング (1)
- MOCVD
- 平坦な誘電率温度特性を持つBa(Zr_xTi_)O_3積層焼結体の作製
- 溶液プロセスによるWO_3・nH_2O薄膜の室温作製とそのエレクトロクロミック特性
- モード変換型マイクロ波プラズマ発生装置による酸窒化シリコン膜のMOCVD
- 直流重畳パルスめっき法による結晶/非晶質Co-Fe-P軟磁性多層膜の作製
- 電子シャワー蒸着法により作製したセメンタイト単相膜の硬さの温度依存性
- 電子シャワー蒸着法による鉄の炭化、窒化、酸化膜の作製
- 電子シャワー法によるFe_4N膜の作製および鉄の窒化
- アークイオンプレーティング法によるポリカーボネイト基板上へのTiNの低温成膜
- Mo(110)表面上に蒸着されたSiのRHEED観察
- 413 溶射皮膜における密着強度評価法の確立 : その1 皮膜と基材界面に付与した予き裂長さと密着強度の関係
- 246 ピンテスト法を用いたHVOF溶射皮膜の密着性評価
- HVOF溶射粒子の状態解析と皮膜構造
- ゲル状ターゲットによる HVOF 溶射粒子の捕捉と評価
- 高速フレーム溶射皮膜に発生する応力のその場測定 : 高速フレーム溶射皮膜の残留応力(第1報)
- HVOF溶射とプラズマ溶射の残留応力発生過程の比較
- CuCl-1-ブチルピリジニウムクロリド常温型溶融塩中のCu(I)イオンからの高純度Cuの電析 : Cu電析物への不純物の混入と溶融塩浴の精製
- 高周波誘導型高密度プラズマを用いた純鉄の窒化
- 低圧高周波誘導プラズマの高密度化とその表面改質への応用
- 反応性熱プラズマ内での酸窒化アルミニウムの焼結
- 電子シャワー法によるステンレス基板への銅の高密着性膜
- ステンレス鋼への銅の強力コ-テングについて (〔日本伸銅協会伸銅技術研究会〕30周年講演集)
- 電子シャワー法によるCuコーティング膜の作成 : 薄膜
- Cd および Zn 徴結晶の VLS 成長機構
- アークイオンプレーティング法によるNb-Mo合金膜の作製および水素脆化
- アークイオンプレーティング法による水素透過性Nb薄膜の作製
- 22pB7 アークイオンプレーティング法によるNb膜の成長機構(気相成長IV)
- チタンのプラズマ浸炭窒化による硬質Ti(C, N)層の作製
- 直流バイアス電圧印加高周波プラズマ窒化による純鉄の表面改質
- Fe_4NのHIP燃結と焼結体の磁気特性
- R. F誘導結合型プラズマを用いたスパッタリングによる窒化ホウ素薄膜の作製
- HIP圧下における反応および焼結を利用したβ-FeSi_2焼結体の作製
- Ti-Ni系アモルファス合金粉末のHIP焼結
- 電流波形制御によるZn-Ni電析ひげ結晶の成長 : モルフォロジーI
- 電析によるZn-Niひげ結晶の成長機構 : モルフォロジーI
- 電析法によるCo-Niホロー結晶の成長
- 電子シャワー法によるITO薄膜の作製とNO_2検知特性の評価
- 簡潔で, わかりやすく, 格調が高い, こと
- 「・・・で, なんなんだい」・・・「へっ!?」
- 活性化反応蒸着法による窒化インジウム薄膜のエレクトロクロミック特製におよぼす酸素の影響
- HVOF溶射法による銅皮膜の作製と評価
- αFe_2O_3からFe_3O_4薄膜への相変態に及ぼすフィラメントの加熱効果
- スパッター法による AlN 薄膜の配向性に対する PBC 理論の応用
- 本協会のさらなる発展のために
- 高山先生の都市計画
- TiC,TiN,c-BN
- 主旨説明(環境工学部門(2)+都市計画部門研究協議会 : 都心居住を保障する環境基準のあり方)(1991年度日本建築学会大会(東北))
- 都市の安全性に関するいくつかの視点 (都市の安全性)
- 都市環境形成にあずかる日本的計画技術について (主集 ユートピア : 理想の生活環境を求めて)
- 都市計画
- 一般社団法人表面技術協会設立に思う
- 酸化物磁性材料におけるDuplex構造(第2報) : 各種フェライトにおける発生およびその粒成長
- 酸化物磁性材料におけるDuplex構造(第1報) : Mn-Zn-フェライトにおける発生条件およびその磁気特性
- HIP法によるSiO_2系非晶質-結晶質複合材料の作製
- 常温型溶融塩浴からのCo-Zn合金の電析
- プラズマ浸炭窒化したチタン上でのダイヤモンド合成
- マイクロ波プラズマMOCVDによる酸化シリコン薄膜の低温堆積
- ポリアニリン/ポリアニオン複合膜のAl溶融塩二次電池正極への応用
- AlCl_3-1-ブチルピリジニウムクロリド系溶融塩浴を用いた二次電池のAl負極の検討
- ホウ素のプラズマ化学輸送を用いた窒化ホウ素薄膜の作製
- バルク状アルミニウムの窒化によるAIN粉末の製造
- 塗布熱分解法によるバナジウム添加ルチル湿度センサの作成〔英文〕
- HIP法によるFeSi2熱電素子の作成
- HIP法によるFe4N焼結体の作成
- ダイヤモンド膜の作製
- チタンの高周波プラズマ窒化
- 熱プラズマを利用した堆積技術の展開 : 高速CVDと溶射に重点を置いて
- 固相反応によるコバルト含有γ-Fe2O3の合成
- HIP法によるFe-WC系複合材料の作製 (金属系高密度・高強度材料,傾斜機能材料,ナノメ-タコンポジット材料) -- (金属系高密度・高強度材料)
- (K+,Na+)-β-フェライト薄膜の感湿特性
- HIP法によるFe,Ni基板上へのW,Mo板の接合
- HIP法によるCr-炭化物(SiC,WC,TiC)系複合材料の作製
- Humidity sensitivity of K+-.BETA.-and .BETA."-ferrite thin film.
- HIP法によるFe-SiC系複合材料の作製