3E11 高周波熱プラズマ法による配向性アパタイト膜の作製
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概要
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- 日本セラミックス協会の論文
- 1992-05-20
著者
-
植田 稔
物質工学工業技術研究所
-
亀山 哲也
化学技術研究所
-
明石 和夫
東京理科大学 理工学部
-
福田 健三
化学技術研究所
-
長谷川 明宏
東京理科大理工
-
植田 稔
化学技術研究所
-
本江 秋弘
日本高周波
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