明石 和夫 | 東京理科大学 理工学部
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概要
関連著者
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明石 和夫
東京理科大学 理工学部
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伊藤 滋
東京理科大学
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伊藤 滋
東京理科大学理工学部
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明石 和夫
東京理大 理工
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伊藤 滋
東京理科大学理工学部工業化学科
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明石 和夫
東京理科大学理工学部工業化学科
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伊藤 滋
東京理科大学 理工学部
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湯本 久美
東京理科大・基礎工
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湯本 久美
東京理科大学大学院
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湯本 久美
東京理科大学基礎工学部材料工学科
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佐藤 貴康
東京理科大学 理工学 部日本学術振興会
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小浦 延幸
東京理科大学理工学部
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植田 稔
物質工学工業技術研究所
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長谷川 明宏
東京理科大理工
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本江 秋弘
日本高周波
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佐藤 貴康
東京理科大学理工学部大学院
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細越 隆司
東京理科大学理工学部工業化学科
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小浦 延幸
東京理科大学 理工学部
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石原 正統
物質工学工業技術研究所
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亀山 哲也
化学技術研究所
-
石原 正統
東京理科大学 基礎工学部
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福田 健三
化学技術研究所
-
植田 稔
化学技術研究所
-
左右木 公嗣
東京理科大学基礎工学部材料工学科
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関 務
東京ガス株式会社基礎技術研究所
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賀曽利 裕
東京理科大学 理工学部
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土谷 敏雄
東理大・基礎工
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瀧 優介
名古屋大学 大学院 日本学術振興会
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亀山 哲也
名古屋工業技術研究所
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山田 仁子
東京理科大学 理工学部
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藤井 孝
東京理大 理工
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土谷 敏雄
東京理大 基礎工
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土谷 敏雄
東京理科大学基礎工学部
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亀山 哲也
化技研
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福田 健三
化技研
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高橋 裕之
東京理科大学理工学部工業化学科
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藤井 孝
東京理科大学理工学部工業化学科
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西井 潤
東京理科大学理工学部工業化学科
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植田 稔
化技研
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福田 健三
化学技術研究所材料化学部
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茂呂 義明
東京理科大学基礎工学部
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築田 博行
日本無線(株)
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小松 洋介
東京理科大学 理工学部
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太田 洋州
東京ガス株式会社基礎技術研究所
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本江 秋弘
日本高周波(株)
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土谷 敏雄
東京理科大学基礎工学部材料工学科
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野内 勇雄
東京理科大学 理工学部
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佐原 正人
東京理科大学 理工学部
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武田 利彦
東京理科大学 理工学部
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新村 佐知子
東京理科大学理工学部工業化学科
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浅沼 治朋
東京理科大学 理工学部
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長谷川 明宏
東京理科大学理工学部
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茂呂 義明
東京理科大学 基礎工学部
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塗師 幸浩
東京理科大学理工学部工業化学科
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瀧 優介
東京理科大学
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吉田 一晴
東京理科大学理工学部工業化学科
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広瀬 次郎
東京理科大学理工学部工業化学科
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前川 英明
東京理科大学大学院
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武田 利彦
大日本印刷 研究開発セ
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小浦 延幸
東京理科大学理工学部工業化学科
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明石 和夫
東京理科大学理工学部
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明石 和夫
東京理科大学工学部
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佐藤 貴康
東京理科大学大学院
-
根岸 学
東京理科大学大学院
著作論文
- 電子シャワー法によるAIN薄膜の作製
- HIP法によるSiO_2系非晶質-結晶質複合材料の作製(2)
- モード変換型マイクロ波プラズマMOCVD法による(111)配向ZrO_2膜の低温堆積
- 3E11 高周波熱プラズマ法による配向性アパタイト膜の作製
- 高周波誘導熱プラズマ法によるジルコニア基板への水酸アパタイトのコーティング
- 1F10 水酸アパタイトの高周波熱プラズマ法によるジルコニアへのコーティング (1)
- アークイオンプレーティング法によるポリカーボネイト基板上へのTiNの低温成膜
- 高周波誘導型高密度プラズマを用いた純鉄の窒化
- 反応性熱プラズマ内での酸窒化アルミニウムの焼結
- アークイオンプレーティング法によるNb-Mo合金膜の作製および水素脆化
- アークイオンプレーティング法による水素透過性Nb薄膜の作製
- チタンのプラズマ浸炭窒化による硬質Ti(C, N)層の作製
- 直流バイアス電圧印加高周波プラズマ窒化による純鉄の表面改質
- Fe_4NのHIP燃結と焼結体の磁気特性
- R. F誘導結合型プラズマを用いたスパッタリングによる窒化ホウ素薄膜の作製
- HIP圧下における反応および焼結を利用したβ-FeSi_2焼結体の作製
- Ti-Ni系アモルファス合金粉末のHIP焼結
- 電流波形制御によるZn-Ni電析ひげ結晶の成長 : モルフォロジーI
- HIP法によるSiO_2系非晶質-結晶質複合材料の作製
- プラズマ浸炭窒化したチタン上でのダイヤモンド合成
- マイクロ波プラズマMOCVDによる酸化シリコン薄膜の低温堆積
- ホウ素のプラズマ化学輸送を用いた窒化ホウ素薄膜の作製
- バルク状アルミニウムの窒化によるAIN粉末の製造
- HIP法によるFe4N焼結体の作成
- ダイヤモンド膜の作製
- チタンの高周波プラズマ窒化
- 熱プラズマを利用した堆積技術の展開 : 高速CVDと溶射に重点を置いて