明石 和夫 | 東京理科大学理工学部工業化学科

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• 伊藤 滋

  東京理科大学理工学部

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  東京理科大学

• 伊藤 滋

  東京理科大学理工学部工業化学科

• 伊藤 滋

  東京理科大学 理工学部

• 小浦 延幸

  東京理科大学理工学部

• 土谷 敏雄

  東理大・基礎工

• 明石 和夫

  東京大学工学部金属工学科

• 湯本 久美

  東京理科大・基礎工

• 石原 正統

  物質工学工業技術研究所

• 瀧 優介

  名古屋大学 大学院 日本学術振興会

• 山田 仁子

  東京理科大学 理工学部

• 藤井 孝

  東京理大 理工

• 土谷 敏雄

  東京理大 基礎工

• 土谷 敏雄

  東京理科大学基礎工学部

• 石原 正統

  東京理科大学 基礎工学部

• 藤井 孝

  東京理科大学理工学部工業化学科

• 西井 潤

  東京理科大学理工学部工業化学科

• 湯本 久美

  東京理科大学大学院

• 築田 博行

  日本無線(株)

• 小松 洋介

  東京理科大学 理工学部

• 土谷 敏雄

  東京理科大学基礎工学部材料工学科

• 湯本 久美

  東京理科大学基礎工学部材料工学科

• 賀曽利 裕

  東京理科大学 理工学部

• 瀧 優介

  東京理科大学

• 吉田 一晴

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• 小浦 延幸

  東京理科大学 理工学部

• 小浦 延幸

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著作論文

• 電子シャワー法によるAIN薄膜の作製
• HIP法によるSiO_2系非晶質-結晶質複合材料の作製(2)
• モード変換型マイクロ波プラズマMOCVD法による(111)配向ZrO_2膜の低温堆積
• 高周波誘導型高密度プラズマを用いた純鉄の窒化
• マイクロ波プラズマMOCVDによる酸化シリコン薄膜の低温堆積
• ホウ素のプラズマ化学輸送を用いた窒化ホウ素薄膜の作製
• バルク状アルミニウムの窒化によるAIN粉末の製造
• 物理的蒸着法及びその周辺技術の現状と展望(蒸着)(表面処理)

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