22pB7 アークイオンプレーティング法によるNb膜の成長機構(気相成長IV)
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
Nb films for hydrogen separation permeable membrane were prepared by arc-ion plating. The columnar Nb crystals grew on a flat Al_2O_3 substrate. The corn-shaped Nb crystals grew on a flat Al_2O_3 substrate. The difference of these morphologies were explained by the theory of geometric selection. The corn-shaped crystals inhibited the formation of Pin holes in the Nb films.
- 日本結晶成長学会の論文
- 1999-07-01
著者
-
湯本 久美
東理大・基礎工
-
明石 和夫
東理大・理工
-
湯本 久美
東京理科大学大学院
-
明石 和夫
東京理大 理工
-
湯本 久美
東京理科大学基礎工学部材料工学科
-
関 務
東京ガス株式会社基礎技術研究所
-
左右木 公嗣
東理大・基礎工
-
関 務
東京ガス(株)
関連論文
- LiCl-KCl共晶溶融塩中におけるアルミニウムフッ化物のクロノポテンショメトリー
- 27aC8 グラファイト上のAg微結晶成長のSEM"その場"観察(気相成長II)
- Mo(110)表面上におけるAg微結晶の成長に伴う回転 : 気相成長IV
- Mo(110)表面上におけるAg双晶結晶の成長のSEMによる動的観察 : 気相成長IV
- SEM"その場" 観察によるグラファイト基板上の Ag 粒子の核形成と成長(「核形成と成長カイネティクス」)
- 22pB10 ITOひげ結晶のVLS成長機構(気相成長IV)
- VLS成長した金属微結晶の核生成 : 気相成長
- VLS(気相-液相-固相)成長したCdおよびZn微結晶の均質核生成
- 電子シャワー法によるAIN薄膜の作製
- 燃焼炎CVD法によるダイヤモンド膜の合成
- 2元素合金におけるラフニング転移 : 平衡形
- 27a-J-9 2元系合金におけるラフニング転移
- 不純物BiによりVLS成長したZn結晶のモルフォロジーの特異性
- 金属微細結晶のモルフォロジーに対するHe不活性ガスの影響 : モルフォロジーII
- Cd結晶のVLS成長機構に対する不純物Snの影響
- TiCを化学蒸着被覆した316ステンレス鋼の真空鈍純による界面近傍反応領域について
- 金属微細結晶(Cd, Zn)のVLS成長停止後のVS成長によるモルフォロジー変化 : ホイスカおよびモルフォロジー
- 不純物にAuを用いたVLS自由成長Si単結晶のモルフォロジ
- 各種不純物を含み気相成長したCdおよびZn結晶のモルフォロジーと成長機構の温度依存性
- 種々の不純物(Sn,Pb,In,Zn)を加えたCd結晶のモルフォロジー : モルフォロジーと有機結晶
- Cd微小六角柱状結晶の成長速度 : ひげ結晶と金属
- 気相成長Cd結晶のモルフォロジーと成長機構に対する不純物Biの影響(結晶のモルフォロジー)
- 不純物Biを含むCd結晶のモルフォロジーと成長機構 : モルフォロジー
- 6a-AG-11 不純物Biを含むCd結晶のVLS成長の停止の機構
- 高周波誘導熱プラズマ法によるジルコニア基板への水酸アパタイトのコーティング
- モード変換型マイクロ波プラズマ発生装置による酸窒化シリコン膜のMOCVD
- 直流重畳パルスめっき法による結晶/非晶質Co-Fe-P軟磁性多層膜の作製
- 電子シャワー蒸着法により作製したセメンタイト単相膜の硬さの温度依存性
- 電子シャワー蒸着法による鉄の炭化、窒化、酸化膜の作製
- 電子シャワー法によるFe_4N膜の作製および鉄の窒化
- 反応性プラズマ中におけるアルミナ粉およびアルミナ・炭素混合粉の焼結挙動
- アークイオンプレーティング法によるポリカーボネイト基板上へのTiNの低温成膜
- 413 溶射皮膜における密着強度評価法の確立 : その1 皮膜と基材界面に付与した予き裂長さと密着強度の関係
- 246 ピンテスト法を用いたHVOF溶射皮膜の密着性評価
- HVOF溶射粒子の状態解析と皮膜構造
- ゲル状ターゲットによる HVOF 溶射粒子の捕捉と評価
- 高速フレーム溶射皮膜に発生する応力のその場測定 : 高速フレーム溶射皮膜の残留応力(第1報)
- HVOF溶射とプラズマ溶射の残留応力発生過程の比較
- 低圧高周波誘導プラズマの高密度化とその表面改質への応用
- 反応性熱プラズマ内での酸窒化アルミニウムの焼結
- 電子シャワー法によるステンレス基板への銅の高密着性膜
- ステンレス鋼への銅の強力コ-テングについて (〔日本伸銅協会伸銅技術研究会〕30周年講演集)
- 電子シャワー法によるCuコーティング膜の作成 : 薄膜
- Cd および Zn 徴結晶の VLS 成長機構
- 不純物としてSnを加えたZn結晶のモルフォロジと成長機構 : モルフォロジーと有機結晶
- アークイオンプレーティング法によるNb-Mo合金膜の作製および水素脆化
- アークイオンプレーティング法による水素透過性Nb薄膜の作製
- 22pB7 アークイオンプレーティング法によるNb膜の成長機構(気相成長IV)
- チタンのプラズマ浸炭窒化による硬質Ti(C, N)層の作製
- 直流バイアス電圧印加高周波プラズマ窒化による純鉄の表面改質
- Fe_4NのHIP燃結と焼結体の磁気特性
- R. F誘導結合型プラズマを用いたスパッタリングによる窒化ホウ素薄膜の作製
- HIP圧下における反応および焼結を利用したβ-FeSi_2焼結体の作製
- Ti-Ni系アモルファス合金粉末のHIP焼結
- 電流波形制御によるZn-Ni電析ひげ結晶の成長 : モルフォロジーI
- 電析によるZn-Niひげ結晶の成長機構 : モルフォロジーI
- 国際プラズマ化学シンポジウムの概要(国際会議報告)
- 電析法によるCo-Niホロー結晶の成長
- Zn-Ni合金ウィスカ-の電析
- ZnO膜で覆われた電析Zn-Ni合金ひげ結晶 : 溶液成長II
- Co-Ni合金ホロー(空洞)結晶の成長機構 : 基礎(実験)III
- 電子ビーム法によるITO薄膜に対する電子シャワーの影響 : 気相成長III
- 電子シャワー法によるITO薄膜の作製とNO_2検知特性の評価
- 活性化反応蒸着法による窒化インジウム薄膜のエレクトロクロミック特製におよぼす酸素の影響
- HVOF溶射法による銅皮膜の作製と評価
- αFe_2O_3からFe_3O_4薄膜への相変態に及ぼすフィラメントの加熱効果
- アークイオンプレーティング法による水素分離透過性Nb-Mo膜の作製および評価
- スパッター法による AlN 薄膜の配向性に対する PBC 理論の応用
- プラズマ・イオン・光を利用する表面処理プロセス(武井記念講演会シリ-ズ) (プラズマ表面プロセス)
- 5p-D-5 カルナウバ〓エレクトレットの表面電荷
- 純鉄およびステンレス鋼のプラズマ窒化 (素材小特集-3-素材製造プロセシング)
- HIP法によるSiO_2系非晶質-結晶質複合材料の作製
- 熱プラズマプロセシングの進歩と今後の課題
- プラズマ化学のこぼれ話
- プラズマプロセシングの最近の動向 (最新のプラズマ技術と材料プロセス)
- 3-5.固体高分子型燃料電池の検討(Session(3)新エネルギー)
- 沈殿濾過法により作製した固体高分子型燃料電池の特性
- 7-4.沈澱ろ過法により作製した固体高分子型燃料電池の研究(Session(7)燃焼と微粒化)
- ダイヤモンド膜の作製
- チタンの高周波プラズマ窒化
- プラズマ窒化によるTi-6Al-4V合金の表面改質 (チタン)
- 金属およびセラミックス超微粒子の製造法の進歩--プラズマ蒸発・凝縮法とプラズマCVDに重点を置いて
- 熱プラズマを利用した堆積技術の展開 : 高速CVDと溶射に重点を置いて
- プラズマ材料プロセスの展望 (セラミックスへのプラズマ利用)
- Cd結晶のVLS成長とその停止機構
- IT0ひげ結晶のVLS成長機構 : 無機結晶I
- 閉管法における蒸気輸送過程 : 気相成長・薄膜I
- PVD過程の成長速度律速機構