梶谷 一彦 | エルピーダ

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概要

• 同名の論文著者
• エルピーダの論文著者

関連著者

• 梶谷 一彦

  エルピーダ

• 梶谷 一彦

  エルピーダメモリ(株)開発センター

• 梶谷 一彦

  日立製作所デバイス開発センタ

• 竹村 理一郎

  (株)日立製作所中央研究所

• 河原 尊之

  (株)日立製作所中央研究所

• 半澤 悟

  日立製作所中央研究所

• 半澤 悟

  (株)日立製作所中央研究所

• 秋山 悟

  日立製作所・中央研究所

• 関口 知紀

  株式会社日立製作所中央研究所

• 秋山 悟

  (株)日立製作所中央研究所

• 関口 知紀

  (株)日立製作所中央研究所

• 関口 知紀

  (株)日立製作所システム開発研究所

• 伊藤 清男

  (株)日立製作所中央研究所

• 伊藤 清男

  株式会社日立製作所中央研究所

• 半澤 悟

  株式会社日立製作所 中央研究所

• 阪田 健

  (株)日立製作所中央研究所

• 阪田 健

  (株)日立製作所研究開発本部

• 半澤 悟

  株式会社日立製作所

• 川澄 篤

  株式会社東芝

• 川澄 篤

  東芝セミコンダクター社

• 新居 浩二

  ルネサステクノロジー

• 秋山 悟

  株式会社日立製作所中央研究所

• 竹村 理一郎

  株式会社日立製作所中央研究所

• 河原 尊之

  株式会社日立製作所中央研究所

• 杉林 直彦

  Nec

• 新居 浩二

  ルネサスエレクトロニクス株式会社

• 新居 浩二

  ルネサステクノロジ

• 佐圓 真

  日立製作所中央研究所

• 新居 浩二

  ルネサスエレクトロニクス

• 遠藤 哲郎

  東北大学

• 竹内 健

  東大

• 三輪 達

  サンディスク株式会社

• 神田 和重

  東芝

• 篠崎 直冶

  Spansion

• 加藤 佳一

  パナソニック株式会社デバイス・システム開発センター

• 柿原 俊男

  HGST

• 小林 三千夫

  Spansion

• 塚澤 寿夫

  東芝

• 佐圓 真

  日立

• 梶谷 一彦

  エルピーダメモリ株式会社

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著作論文

• 0.4V高速動作、長リテンション時間を実現する12F^2ツインセルDRAMアレー(VLSI回路, デバイス技術(高速・低電圧・低消費電力))
• ギガビット時代のDRAM設計における統計的手法導入の提案(新メモリ技術, メモリ応用技術, 一般, ISSCC特集2 DRAM)
• One-hot-spotブロック符号を用いたネットワーク・ルータ向け大容量・低電力ダイナミックCAM(VLSI回路,デバイス技術(高速,低電圧,低電力))
• One-hot-spotブロック符号を用いたネットワーク・ルータ向け大容量・低電力ダイナミックCAM(VLSI回路,デバイス技術(高速,低電圧,低電力))
• 0.4V高速動作、長リテンション時間を実現する12F^2ツインセルDRAMアレー(VLSI回路, デバイス技術(高速・低電圧・低消費電力))
• 大容量フラッシュメモリの可能性を探る : 進行するフラッシュ革命のインパクト(メモリ技術(DRAM,SRAM,フラッシュ,新規メモリー))
• スマート社会におけるメモリソリューションの今後の展望 : 新不揮発メモリはSRAM/DRAM/フラッシュを置き換える?(メモリ(DRAM,SRAM,フラッシュ,新規メモリ)技術)

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