金 永〓 | 東京大学大学院工学系研究科総合研究機構
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概要
関連著者
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中村 友二
富士通研究所
-
大場 隆之
東京大学大学院工学系研究科総合研究機構
-
北田 秀樹
東京大学大学院工学系研究科総合研究機構
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中村 友二
(株)富士通研究所
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金 永〓
東京大学工学系研究科
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水島 賢子
株式会社富士通研究所
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水島 賢子
富士通研究所
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水島 賢子
東京大学大学院工学系研究化総合研究機構
-
北田 秀樹
東京大学大学院工学系研究化総合研究機構
-
金 永〓
東京大学大学院工学系研究科総合研究機構
-
前田 展秀
東京大学大学院工学系研究科総合研究機構
-
中村 友二
株式会社富士通研究所集積材料研究部
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藤本 興冶
東京大学工学系研究科
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前田 展秀
東京大学大学院工学系研究化総合研究機構
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藤本 興治
大日本印刷株式会社
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中村 友二
株式会社富士通研究所
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川合 章仁
(株)ディスコ
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荒井 一尚
(株)ディスコ
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鈴木 浩助
大日本印刷株式会社
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前田 展秀
東京大学工学系研究科
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彦坂 吉信
富士通セミコンダクター株式会社
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恵下 隆
富士通セミコンダクター株式会社
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北田 秀樹
東京大学工学系研究科
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川合 章仁
株式会社ディスコ
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荒井 一尚
株式会社ディスコ
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中塚 理
名古屋大学
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大場 隆之
東京大学
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大場 隆之
School of Engineering, The University of Tokyo
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大場 隆之
東京大学工学系研究科
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藤本 興治
大日本印刷
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大場 隆之
東京大学大学院工学系研究化総合研究機構
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財満 鎭明
名古屋大学
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財満 鎭明
名古屋大学大学院 工学研究科
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金 永束
東京大学
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NAKATA Yoshihiro
Fujitsu Laboratories Ltd.
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児玉 祥一
東京大学大学院工学系研究科総合研究機構
-
金 永束
東京大学大学院工学系研究科総合研究機構
-
北田 秀樹
東京大学
著作論文
- 実デバイス基板を用いたサブ10ミクロン薄化技術の開発(低電圧/低消費電力技術,新デバイス・回路とその応用)
- 実デバイス基板を用いたサブ10ミクロンの薄化技術の開発(SSD,低電圧/低消費電力技術,新デバイス・回路とその応用)
- Si貫通ビア(TSV)の側壁ラフネスに起因したリーク電流特性とビア応力の関係(配線・実装技術と関連材料技術)
- Wafer-on-wafer構造における貫通Si電極周辺の局所歪の評価(配線・実装技術と関連材料技術)